Pour créer un plasma dans le cadre de la méthode de dépôt physique en phase vapeur (PVD), il faut un gaz aux propriétés spécifiques. Le gaz doit pouvoir être ionisé facilement et ne doit pas réagir chimiquement avec le matériau cible. Le gaz argon est couramment utilisé à cette fin en raison de sa nature inerte et de son poids atomique approprié.
Le gaz argon dans le procédé PVD :
L'argon est un gaz inerte, ce qui signifie qu'il ne se combine pas chimiquement avec d'autres atomes ou composés. Cette propriété est cruciale dans le procédé PVD car elle garantit que le matériau de revêtement reste pur lorsqu'il passe en phase vapeur dans la chambre à vide. L'utilisation de l'argon dans le processus de pulvérisation, une méthode courante en PVD, est particulièrement bénéfique car son poids atomique est suffisant pour affecter les atomes du matériau cible sans provoquer de réactions chimiques. Cela permet un transfert efficace de la vapeur du matériau cible vers le substrat sans contamination.Génération de plasma en PVD :
Dans le procédé PVD, le plasma est généralement généré par l'application d'une tension à des électrodes dans un gaz à faible pression. Ce processus peut être facilité par divers types de sources d'énergie, telles que les radiofréquences (RF), les moyennes fréquences (MF) ou le courant continu (DC). L'énergie de ces sources ionise le gaz, formant des électrons, des ions et des radicaux neutres. Dans le cas de l'argon, le processus d'ionisation est crucial pour créer le milieu plasmatique nécessaire au processus de pulvérisation. Le plasma améliore l'efficacité du dépôt en favorisant les réactions chimiques et en créant des sites actifs sur les substrats, ce qui est essentiel pour la formation de films minces présentant les propriétés souhaitées.
Rôle du plasma dans le revêtement PVD :
