La fréquence couramment utilisée pour le dépôt par pulvérisation cathodique RF est de 13,56 MHz. Cette fréquence est choisie pour plusieurs raisons :
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Conformité réglementaire: L'Union internationale des télécommunications (UIT) a désigné 13,56 MHz comme fréquence pour les instruments industriels, scientifiques et médicaux (ISM) afin d'éviter les interférences avec les services de télécommunication. Cette attribution garantit que l'équipement de pulvérisation RF fonctionne dans une bande de fréquences spécifiquement réservée aux applications non liées aux télécommunications.
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Efficacité de l'interaction ion-cible: La fréquence de 13,56 MHz est suffisamment basse pour laisser suffisamment de temps au transfert de la quantité de mouvement des ions argon vers le matériau cible pendant la pulvérisation. À cette fréquence, les ions ont le temps d'atteindre la cible et d'interagir avec elle avant le début du cycle suivant du champ RF. Cette interaction est cruciale pour une pulvérisation efficace du matériau cible.
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Éviter l'accumulation de charges: Dans la pulvérisation RF, le potentiel électrique alternatif permet d'éviter l'accumulation de charges sur la cible, en particulier lorsqu'il s'agit de matériaux isolants. Pendant le cycle positif de la RF, les électrons sont attirés vers la cible, ce qui lui confère une polarisation négative. Pendant le cycle négatif, le bombardement ionique se poursuit, garantissant que la cible reste électriquement neutre et empêchant tout effet indésirable tel que la formation de gouttelettes.
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Norme largement acceptée: En raison de son efficacité et de sa conformité aux réglementations internationales, la fréquence de 13,56 MHz est devenue la fréquence standard pour la pulvérisation RF. Cette normalisation simplifie la conception et le fonctionnement des équipements de pulvérisation, ainsi que la compatibilité des différents systèmes et composants.
En résumé, le choix de la fréquence 13,56 MHz pour la pulvérisation RF résulte de sa conformité réglementaire, de son efficacité dans les interactions ion-cible, de sa capacité à empêcher l'accumulation de charges et de son statut de norme largement acceptée dans l'industrie.
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