Résumé : L'utilisation de la pulvérisation cathodique par rapport à l'évaporation pour créer un système d'interconnexion métallique présente deux avantages : une meilleure qualité et uniformité du film et un contrôle plus facile de l'épaisseur et de la composition du film.
Explication détaillée :
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Meilleure qualité et uniformité du film : La pulvérisation est connue pour produire des films d'une qualité et d'une uniformité supérieures à celles de l'évaporation. En effet, la pulvérisation implique le bombardement d'un matériau cible par des particules énergétiques, ce qui entraîne un dépôt plus uniforme du matériau sur le substrat. Le film obtenu est plus homogène sur toute sa surface, ce qui peut conduire à un rendement plus élevé dans les processus de fabrication. Cette uniformité est cruciale dans les systèmes d'interconnexion métalliques où des propriétés électriques constantes sont essentielles.
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Contrôle plus facile de l'épaisseur et de la composition du film : La pulvérisation cathodique permet un contrôle plus précis de l'épaisseur du film déposé en ajustant le temps de dépôt et les paramètres de fonctionnement. En outre, le contrôle de la composition de l'alliage et d'autres propriétés du film, telles que la couverture des étapes et la structure du grain, est plus simple avec la pulvérisation qu'avec l'évaporation. Ce contrôle est vital pour la création de systèmes d'interconnexion métalliques qui requièrent des propriétés matérielles spécifiques pour fonctionner efficacement. La pulvérisation permet également de déposer des matériaux ayant des points de fusion très élevés, qu'il est difficile ou impossible d'évaporer, ce qui élargit la gamme des matériaux pouvant être utilisés dans les systèmes d'interconnexion.
Ces avantages font de la pulvérisation une méthode privilégiée pour créer des systèmes d'interconnexion métalliques où la précision, l'uniformité et le contrôle des propriétés des matériaux sont essentiels.
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