Connaissance Qu'est-ce qu'un réacteur à plasma micro-ondes ?
Avatar de l'auteur

Équipe technique · Kintek Solution

Mis à jour il y a 1 semaine

Qu'est-ce qu'un réacteur à plasma micro-ondes ?

Un réacteur à plasma micro-ondes est un système spécialisé utilisé pour les processus de dépôt chimique en phase vapeur, en particulier pour la synthèse de matériaux tels que les diamants, les nanotubes de carbone et le graphène. Ce réacteur utilise l'énergie des micro-ondes à une fréquence de 2,45 GHz pour générer un plasma dans une chambre contrôlée. Le plasma est formé au-dessus d'une table de substrat, loin des surfaces du réacteur, et sa position peut être ajustée par rapport à la fenêtre de quartz transparente aux micro-ondes afin d'optimiser le circuit des micro-ondes.

Explication détaillée :

  1. Génération de micro-ondes et formation de plasma :

  2. Le réacteur est équipé d'un générateur de micro-ondes qui fonctionne à 2,45 GHz, une fréquence courante pour les applications industrielles et scientifiques. Les micro-ondes sont transmises dans la chambre cylindrique via un guide d'onde rectangulaire et un convertisseur de mode. À l'intérieur de la chambre, les micro-ondes créent un champ électromagnétique résonant qui chauffe et excite les gaz réactifs, formant un plasma. Ce plasma est typiquement une masse en forme de boule au-dessus du substrat, ce qui est crucial pour le processus de dépôt.Chauffage du substrat et contrôle des gaz :

  3. Les substrats dans le réacteur peuvent être chauffés indépendamment de la génération du plasma par des méthodes telles que le chauffage par induction (jusqu'à 1000°C) et le chauffage par polarisation. Ce contrôle indépendant permet une régulation précise de la température pendant le processus de dépôt. Les gaz utilisés dans le réacteur sont introduits par une tuyauterie en acier inoxydable et leur débit est contrôlé par un débitmètre massique. L'unité de contrôle des gaz MKS prend en charge une variété de gaz, notamment l'hydrogène, le méthane, l'acétylène, l'argon, l'azote, l'oxygène et d'autres, qui sont essentiels pour différents types de synthèse de matériaux.

  4. Conception du réacteur et défis :

  5. La conception des réacteurs à plasma micro-ondes doit relever plusieurs défis, notamment l'emballement thermique, la rupture de tension et la formation d'arcs électriques. Pour éviter ces problèmes, la conception du réacteur doit garantir que l'intensité du champ de micro-ondes est optimisée pour empêcher la formation d'arcs tout en minimisant la perte de chaleur. En outre, le réacteur doit être conçu de manière à empêcher la pénétration de poussière dans le système de guide d'ondes et à éviter les angles et les bords tranchants qui pourraient entraîner une surchauffe localisée et la formation d'arcs. Des procédures de réglage appropriées sont également cruciales pour éviter de coupler l'arc avec la puissance réfléchie.Types de réacteurs à plasma micro-ondes :

Au fil du temps, divers types de réacteurs à plasma micro-ondes ont été développés, chacun avec des géométries différentes conçues pour améliorer l'accommodation de la puissance des micro-ondes. Ces réacteurs vont du simple tube de quartz à des structures plus complexes telles que l'ellipsoïde, le dôme, le multimode non cylindrique, l'antenne annulaire, le résonateur ellipsoïdal et le réflecteur conique. Chaque conception vise à améliorer la capacité de focalisation des micro-ondes, à protéger les fenêtres diélectriques de la gravure au plasma et à améliorer la capacité d'accord.

Produits associés

Bell-jar Resonator MPCVD Machine pour la croissance de laboratoire et de diamants

Bell-jar Resonator MPCVD Machine pour la croissance de laboratoire et de diamants

Obtenez des films diamantés de haute qualité avec notre machine Bell-jar Resonator MPCVD conçue pour la croissance de laboratoire et de diamants. Découvrez comment le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes fonctionne pour la croissance de diamants à l'aide de gaz carbonique et de plasma.

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Découvrez la machine MPCVD à résonateur cylindrique, la méthode de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à micro-ondes utilisée pour produire des pierres précieuses et des films en diamant dans les secteurs de la bijouterie et des semi-conducteurs. Découvrez ses avantages économiques par rapport aux méthodes HPHT traditionnelles.

Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence

Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence

RF-PECVD est un acronyme pour "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Ce procédé permet de déposer un film de carbone de type diamant (DLC) sur des substrats de germanium et de silicium. Il est utilisé dans la gamme de longueurs d'onde infrarouge 3-12um.

Réacteur de synthèse hydrothermique antidéflagrant

Réacteur de synthèse hydrothermique antidéflagrant

Améliorez vos réactions de laboratoire avec le réacteur de synthèse hydrothermique antidéflagrant. Résistant à la corrosion, sûr et fiable. Commandez maintenant pour une analyse plus rapide !

Machine à diamant MPCVD 915MHz

Machine à diamant MPCVD 915MHz

La machine MPCVD 915 MHz pour diamants et sa croissance efficace multi-cristaux, la zone maximale peut atteindre 8 pouces, la zone maximale de croissance efficace du monocristal peut atteindre 5 pouces. Cet équipement est principalement utilisé pour la production de films de diamant polycristallin de grande taille, la croissance de longs diamants monocristallins, la croissance à basse température de graphène de haute qualité et d'autres matériaux dont la croissance nécessite de l'énergie fournie par un plasma à micro-ondes.

Réacteur à haute pression en acier inoxydable

Réacteur à haute pression en acier inoxydable

Découvrez la polyvalence du réacteur à haute pression en acier inoxydable - une solution sûre et fiable pour le chauffage direct et indirect. Construit en acier inoxydable, il peut résister à des températures et des pressions élevées. En savoir plus maintenant.

Mini réacteur haute pression SS

Mini réacteur haute pression SS

Mini réacteur haute pression SS - Idéal pour les industries de la médecine, de la chimie et de la recherche scientifique. Température de chauffage et vitesse d'agitation programmées, jusqu'à 22 MPa de pression.

Four tubulaire à glissière PECVD avec gazéificateur de liquide Machine PECVD

Four tubulaire à glissière PECVD avec gazéificateur de liquide Machine PECVD

Système PECVD à glissière KT-PE12 : large plage de puissance, contrôle de la température programmable, chauffage/refroidissement rapide avec système coulissant, contrôle du débit massique MFC et pompe à vide.

Machine à four tubulaire à dépôt chimique assisté par plasma rotatif incliné (PECVD)

Machine à four tubulaire à dépôt chimique assisté par plasma rotatif incliné (PECVD)

Présentation de notre four PECVD rotatif incliné pour un dépôt précis de couches minces. Profitez d'une source d'adaptation automatique, d'un contrôle de température programmable PID et d'un contrôle de débitmètre massique MFC de haute précision. Fonctions de sécurité intégrées pour une tranquillité d'esprit.

Four de frittage par plasma étincelant Four SPS

Four de frittage par plasma étincelant Four SPS

Découvrez les avantages des fours de frittage par plasma à étincelles pour la préparation rapide de matériaux à basse température. Chauffage uniforme, faible coût et respect de l'environnement.

Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD

Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD

Améliorez votre processus de revêtement avec l'équipement de revêtement PECVD. Idéal pour les LED, les semi-conducteurs de puissance, les MEMS, etc. Dépose des films solides de haute qualité à basse température.

Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment

Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment

Le moule d'étirage du revêtement composite nano-diamant utilise du carbure cémenté (WC-Co) comme substrat et utilise la méthode chimique en phase vapeur (méthode CVD en abrégé) pour revêtir le diamant conventionnel et le revêtement composite nano-diamant sur la surface de l'orifice intérieur du moule.

Four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples Machine CVD

Four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples Machine CVD

KT-CTF14 Four CVD à zones de chauffage multiples - Contrôle précis de la température et du débit de gaz pour les applications avancées. Température maximale jusqu'à 1200℃, débitmètre massique MFC à 4 canaux, et contrôleur à écran tactile TFT 7".

Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client

Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client

Obtenez votre four CVD exclusif avec le four polyvalent fabriqué par le client KT-CTF16. Fonctions de glissement, de rotation et d'inclinaison personnalisables pour des réactions précises. Commandez maintenant!


Laissez votre message