Le dépôt d'une vapeur est le processus par lequel un film solide est formé sur une surface à partir de matériaux vaporisés.
Ce processus peut être réalisé par des moyens chimiques ou physiques.
Il est essentiel dans diverses applications industrielles, en particulier dans la formation de couches minces pour l'électronique, l'optique et les dispositifs médicaux.
Qu'est-ce que le dépôt d'une vapeur ? 5 points clés expliqués
1. Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
Dans le dépôt chimique en phase vapeur, le dépôt d'un film solide s'effectue par une réaction chimique en phase vapeur.
Le processus comporte généralement trois étapes principales :
1.1 Évaporation d'un composé volatil
La substance à déposer est d'abord vaporisée.
On y parvient souvent en chauffant un matériau précurseur à une température élevée, ce qui provoque son évaporation dans la phase gazeuse.
1.2 Décomposition thermique ou réaction chimique
La vapeur subit une décomposition thermique en atomes et molécules ou réagit avec d'autres vapeurs ou gaz à la surface du substrat.
Cette étape est cruciale car elle initie la transformation chimique nécessaire à la formation du film.
1.3 Dépôt des produits de réaction non volatils
Les produits de la réaction chimique, qui sont maintenant à l'état solide, se déposent sur le substrat, formant un film mince.
Ce dépôt est influencé par des facteurs tels que la température et la pression, qui sont généralement élevées dans les procédés CVD.
2. Dépôt physique en phase vapeur (PVD)
Le dépôt physique en phase vapeur implique le transfert d'un matériau de l'état solide à l'état de vapeur, puis de nouveau à l'état solide sur un substrat.
Le processus comprend
2.1 Vaporisation du matériau solideLe matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se vaporise.Cette opération peut être réalisée par diverses méthodes telles que la pulvérisation cathodique, l'évaporation ou le chauffage par faisceau d'électrons.
