L'équipement MOCVD est un outil spécialisé utilisé pour le dépôt de matériaux monocristallins minces.
Il est principalement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs composés.
Le processus fonctionne par épitaxie en phase vapeur en utilisant des composés métallo-organiques et des hydrures comme matériaux de base.
Qu'est-ce que l'équipement MOCVD ? 4 points clés à comprendre
1. Matériaux de base et procédé
Le procédé MOCVD utilise des composés organiques des groupes III et II.
Elle utilise également des hydrures d'éléments des groupes V et VI.
Ces matériaux sont introduits dans la chambre de réaction où ils subissent une décomposition thermique.
La décomposition entraîne le dépôt de divers semi-conducteurs composés Ⅲ-V et Ⅱ-VI et de leurs solutions solides multicouches sous forme de minces matériaux monocristallins sur le substrat.
2. Méthodologie et fonctionnalité
Le procédé MOCVD implique l'utilisation de composés métallo-organiques comme précurseurs.
Ces précurseurs sont introduits dans la chambre de réaction.
Ils sont soit décomposés thermiquement, soit activés par d'autres moyens tels que le plasma ou la lumière.
Le centre métallique réagit avec d'autres molécules précurseurs ou avec le substrat pour former le matériau souhaité.
Les ligands organiques sont libérés en tant que sous-produits.
Cette méthode permet un contrôle précis de la composition et des niveaux de dopage des films déposés.
Elle est particulièrement utile pour les applications exigeant une précision et une qualité élevées.
3. Application et contrôle
La MOCVD est largement utilisée dans la production de dispositifs tels que les diodes électroluminescentes à haute luminosité (HBLED) et d'autres dispositifs semi-conducteurs composés.
Le processus est contrôlé par des instruments avancés qui surveillent et ajustent des paramètres tels que la température du support de la plaquette/de la fente, l'épaisseur du film, la contrainte du film/la courbure de la plaquette et les mesures de surface.
Ce retour d'information en temps réel garantit un rendement et une reproductibilité élevés, essentiels pour les applications industrielles.
4. Caractéristiques techniques
Contrairement aux autres techniques de dépôt en phase vapeur (CVD), le procédé MOCVD introduit les réactifs par l'intermédiaire d'un barboteur.
Le barboteur fait passer un gaz porteur à travers un liquide métallo-organique chauffé.
Cette méthode garantit que la concentration de la source de MO est contrôlée et reproductible.
Elle améliore l'efficacité et la fiabilité du processus de dépôt.
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