Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une méthode utilisée pour créer des films minces.
Elle consiste à transformer un matériau solide en vapeur.
Cette vapeur est ensuite transportée dans une zone de basse pression.
Enfin, la vapeur se condense sur un substrat pour former un film mince.
Ce processus se déroule généralement sous vide.
5 points essentiels à connaître sur le dépôt physique en phase vapeur (PVD)
1. Étapes du processus
Le procédé comporte plusieurs étapes.
Tout d'abord, le matériau source est gazéifié.
Ensuite, la vapeur est transportée.
Enfin, elle se condense sur le substrat.
2. Conditions de vide
Le dépôt en phase vapeur (PVD) est généralement réalisé sous vide.
Cela permet de maintenir la pureté et la qualité du film mince.
3. Large utilisation dans l'industrie
Le dépôt en phase vapeur est utilisé dans diverses industries.
Il produit des revêtements durs et résistants à la corrosion.
Ces revêtements ont une tolérance élevée à la température et une forte adhérence.
4. Méthodes courantes de dépôt en phase vapeur (PVD)
Les méthodes PVD les plus courantes sont la pulvérisation et l'évaporation.
Ces méthodes diffèrent du dépôt chimique en phase vapeur (CVD).
Le dépôt en phase vapeur fait appel à des processus physiques plutôt que chimiques.
5. Respect de l'environnement
Le dépôt en phase vapeur est considéré comme respectueux de l'environnement.
Il ne fait pas appel à des produits chimiques dangereux.
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