Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique utilisée pour déposer des couches minces en convertissant un matériau solide à l'état de vapeur par des moyens physiques, en transportant cette vapeur dans une région à basse pression et en la condensant sur un substrat pour former une couche mince. Ce processus est généralement réalisé sous vide et comporte plusieurs étapes, notamment la gazéification du matériau source, le transport de la vapeur et la condensation sur le substrat. Le dépôt en phase vapeur est largement utilisé dans diverses industries en raison de sa capacité à produire des revêtements durs et résistants à la corrosion, avec une tolérance élevée à la température et une forte adhérence au substrat. Les méthodes de dépôt en phase vapeur les plus courantes sont la pulvérisation et l'évaporation, qui diffèrent du dépôt chimique en phase vapeur (CVD) en ce sens que le dépôt en phase vapeur fait appel à des processus physiques plutôt que chimiques pour déposer le matériau. Le dépôt en phase vapeur est également considéré comme respectueux de l'environnement car il ne fait pas appel à des produits chimiques dangereux.
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