La pulvérisation cathodique est un procédé qui implique l'utilisation d'un gaz spécifique pour créer des films minces ou des revêtements sur un substrat.
5 points essentiels à connaître sur le gaz utilisé pour la pulvérisation cathodique
1. Le gaz de traitement le plus courant est l'argon
L'argon est généralement le gaz de choix pour la pulvérisation cathodique.
2. L'argon est introduit dans une chambre à vide
Dans une chambre à vide, l'argon est ionisé et forme un plasma.
3. Les ions du plasma sont accélérés vers le matériau cible
Ces ions disloquent les atomes ou les molécules du matériau cible.
4. Les particules disloquées forment un flux de vapeur
Ce flux de vapeur se dépose sur un substrat, créant un film mince ou un revêtement.
5. Le choix du gaz peut varier
D'autres gaz comme le néon, le krypton, le xénon, l'oxygène et l'azote peuvent également être utilisés en fonction des exigences spécifiques du processus de pulvérisation.
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