Une température de dépôt typique pour les revêtements DLC est inférieure à 200°C. Plus précisément, la technologie de dépôt spécifique de HEF permet de déposer des revêtements DLC à une température d'environ 170°C. Les films DLC peuvent être déposés à l'aide de la méthode de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence (RF PECVD), qui permet de déposer des films de carbone dotés d'une large gamme de propriétés optiques et électriques. Les films adhèrent bien à de nombreux substrats et peuvent être déposés à des températures relativement basses. Toutefois, les films de carbone sp3 à haute teneur, connus sous le nom de diamant polycristallin, sont généralement produits par des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température. Les films de carbone de type diamant (DLC), sous leurs différentes formes, peuvent être déposés à des températures encore plus basses, de l'ordre de 300°C, avec une force d'adhérence élevée en utilisant des couches de liaison adéquates. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) peut également être utilisé pour produire des revêtements DLC, qui sont durs, résistants aux rayures et présentent de bonnes propriétés de barrière. Le PECVD offre des avantages tels que des températures plus basses, une stabilité chimique, moins de sous-produits toxiques, un temps de traitement rapide et des taux de dépôt élevés. Globalement, les revêtements DLC peuvent être déposés à différentes températures en fonction de la méthode de dépôt spécifique et des propriétés souhaitées.
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