En ce qui concerne la technologie du plasma, les deux types les plus courants sont le plasma RF (radiofréquence) et le plasma micro-ondes.
Ces deux types de plasma diffèrent considérablement dans leur mode de fonctionnement et leur utilisation.
Comprendre ces différences peut vous aider à choisir le bon type de plasma pour vos besoins spécifiques.
Quelle est la différence entre le plasma RF et le plasma micro-ondes (5 différences essentielles) ?
1. Fréquence de fonctionnement
Le plasma RF fonctionne à une fréquence d'environ 13,56 MHz.
Le plasma micro-ondes, quant à lui, fonctionne à une fréquence d'environ 2,45 GHz.
La différence de fréquence entraîne des caractéristiques et des applications différentes pour chaque type de plasma.
2. Transfert d'énergie et chauffage
Le plasma micro-ondes se caractérise par un rayonnement électromagnétique élevé dans la gamme des GHz.
Cette fréquence élevée permet un transfert d'énergie efficace et le chauffage du produit traité.
Le plasma micro-ondes est couramment utilisé pour synthétiser des matériaux à base de carbone tels que les diamants, les nanotubes de carbone et le graphène.
3. Exigences en matière de tension
Le plasma RF nécessite une tension plus élevée de 1 012 volts ou plus pour obtenir la même vitesse de dépôt que le plasma CC (courant continu).
Le plasma RF consiste à utiliser des ondes radio pour retirer les électrons des enveloppes extérieures des atomes de gaz.
En revanche, le plasma DC implique le bombardement direct des atomes du plasma gazeux par des électrons.
4. Pression de la chambre
Le plasma RF peut être maintenu à une pression de chambre nettement plus basse, inférieure à 15 mTorr.
Ce chiffre est à comparer aux 100 mTorr requis pour le plasma DC.
La pression plus faible permet de réduire les collisions entre les particules de plasma chargées et le matériau cible, ce qui crée une voie plus directe pour les particules de pulvérisation sur le matériau du substrat.
5. Adaptation à différents matériaux cibles
Le plasma RF est particulièrement adapté aux matériaux cibles qui ont des qualités isolantes.
Les systèmes à plasma RF, tels que les systèmes à radiofréquence (RF) fonctionnant à 13,56 MHz, offrent une longue durée de fonctionnement sans interruption de la maintenance, car ils ne nécessitent pas le remplacement des électrodes.
Ils fonctionnent également avec des matériaux cibles conducteurs et isolants.
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