Le dépôt de métaux en phase vapeur est un procédé utilisé pour déposer de fines couches de métal sur un substrat, généralement dans un environnement sous vide. Ce procédé consiste à convertir le métal à l'état de vapeur, puis à le condenser sur la surface du substrat pour former un film mince. Il existe deux principaux types de dépôt en phase vapeur : le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD).
Dépôt physique en phase vapeur (PVD) :
Dans le dépôt en phase vapeur, le métal est excité par des processus thermodynamiques ou électromécaniques, ce qui lui permet de libérer des molécules spécifiques sous forme de vapeur. Cette vapeur est ensuite déposée sur le substrat. Les techniques courantes de dépôt en phase vapeur comprennent l'évaporation thermique sous vide, le dépôt par pulvérisation et le dépôt par faisceau d'électrons. L'évaporation thermique sous vide consiste à chauffer le métal jusqu'à son point d'ébullition dans le vide, ce qui provoque son évaporation et son dépôt sur le substrat. Le dépôt par pulvérisation cathodique consiste à bombarder une cible faite de métal avec des particules à haute énergie, ce qui provoque l'éjection d'atomes qui se déposent sur le substrat. Le dépôt par faisceau d'électrons utilise un faisceau d'électrons pour chauffer le métal, ce qui provoque son évaporation et son dépôt sur le substrat.Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) :
Le dépôt chimique en phase vapeur implique une réaction chimique pour produire la phase vapeur du métal. Les produits chimiques utilisés dans ce processus se décomposent à la surface du substrat, déposant le film métallique. Le dépôt chimique en phase vapeur permet un contrôle précis de la phase et de la structure du film déposé, ce qui le rend polyvalent pour diverses applications.
Applications :
Le dépôt en phase vapeur de métaux est utilisé dans un large éventail d'applications, notamment la fabrication de semi-conducteurs, les systèmes à fibres optiques, les systèmes laser industriels, l'électronique médicale, les dispositifs biomédicaux, les applications optiques et d'imagerie avancées, ainsi que divers produits électroniques grand public, commerciaux et industriels.Avantages :
Les avantages des systèmes de dépôt en phase vapeur comprennent la possibilité de contrôler avec précision le processus de dépôt, la capacité de produire de grandes quantités de films minces et la relative facilité d'installation et d'utilisation. Le dépôt en phase vapeur est donc une option intéressante pour les applications industrielles à grande échelle et les petites entreprises.
