Le pré-nettoyage dans le dépôt de couches minces est une étape cruciale qui consiste à préparer la surface du substrat afin de garantir les propriétés et les performances souhaitées de la couche déposée. Ce processus est nécessaire pour minimiser la contamination et améliorer la compatibilité et l'adhésion du film mince au substrat.
Contrôle de la contamination :
La contamination peut affecter de manière significative la qualité des couches minces. Les sources de contamination comprennent les gaz résiduels dans la chambre de dépôt, les impuretés dans les matériaux sources et les contaminants de surface sur le substrat. Pour atténuer ces problèmes, il est essentiel d'utiliser un environnement de dépôt propre et des matériaux de source de haute pureté.Compatibilité avec les substrats :
Le choix du matériau du substrat est essentiel car il peut influencer les caractéristiques et l'adhérence du film mince. Tous les matériaux ne sont pas compatibles avec tous les procédés de dépôt, et certains peuvent réagir de manière indésirable pendant le dépôt. La sélection d'un substrat capable de résister aux conditions de dépôt et d'interagir de manière appropriée avec le matériau de la couche mince est vitale.
Méthode de dépôt et profondeur de nettoyage :
Le choix de la méthode de pré-nettoyage dépend de la méthode de dépôt et de la profondeur de nettoyage requise. Par exemple, les technologies de source d'ions sont compatibles avec les systèmes d'évaporation mais peuvent ne pas être aussi efficaces avec les systèmes de pulvérisation. La méthode de nettoyage doit être choisie en fonction du fait que l'objectif est d'éliminer les hydrocarbures et les molécules d'eau (ce qui nécessite une faible énergie ionique) ou des couches entières d'oxyde (ce qui nécessite une densité et une énergie ioniques plus élevées).Zone de couverture :
Les différentes méthodes de pré-nettoyage offrent des zones de couverture variables. Par exemple, les méthodes de prétraitement par plaque luminescente RF et plasma peuvent couvrir de grandes zones, tandis que les prétraitements par RF ou micro-ondes et les sources d'ions circulaires offrent une couverture plus limitée.
Préparation de la chambre à vide :
