L'histoire de la pulvérisation magnétron est un voyage fascinant qui s'étend sur plus d'un siècle. Tout a commencé au milieu du XIXe siècle avec les premières observations des phénomènes de pulvérisation. Cependant, ce n'est qu'au milieu du 20e siècle que la pulvérisation est devenue commercialement pertinente.
4 étapes clés de l'histoire de la pulvérisation cathodique magnétron
1. Premiers développements (1850-1940)
La pulvérisation a été observée pour la première fois dans les années 1850. Elle était utilisée pour le dépôt de métaux réfractaires qui ne pouvaient pas être déposés par évaporation thermique. Le procédé consistait à utiliser une décharge électrique pour déposer des films métalliques sur une cathode froide. Cette première forme de pulvérisation a été limitée et n'a pas été largement adoptée en raison de sa faible efficacité et de son coût élevé.
2. Importance commerciale et pulvérisation cathodique (années 1940-1960)
Les années 1940 ont vu l'introduction de la pulvérisation cathodique. Celle-ci a commencé à trouver des applications commerciales en tant que procédé de revêtement. Malgré son adoption initiale, la pulvérisation cathodique a continué à rencontrer des difficultés en raison de ses faibles taux de dépôt et de ses coûts élevés, ce qui a limité son utilisation à grande échelle.
3. Introduction de la pulvérisation magnétron (années 1970)
La véritable percée dans la technologie de pulvérisation a eu lieu au milieu des années 1970 avec le développement de la pulvérisation magnétron. Cette technique implique l'utilisation d'un champ magnétique fermé sur la surface de la cible. Elle a amélioré l'efficacité de la génération de plasma en augmentant la probabilité de collisions entre les électrons et les atomes d'argon près de la surface de la cible. Cette innovation a considérablement augmenté les taux de dépôt et réduit les coûts, faisant de la pulvérisation magnétron une méthode privilégiée pour diverses applications dans des industries telles que la microélectronique et le verre architectural.
4. Applications et progrès modernes
Aujourd'hui, la pulvérisation magnétron est largement utilisée pour déposer une variété de matériaux, notamment des métaux, des céramiques et des alliages, sur différents substrats. La technologie a évolué pour inclure diverses configurations géométriques de cibles et des méthodes avancées telles que le balayage du champ magnétique sur la surface de la cible afin d'optimiser des applications spécifiques. Cette évolution a consolidé le rôle de la pulvérisation magnétron dans les processus industriels modernes, en particulier dans la production de couches minces et de revêtements.
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