L'histoire de la pulvérisation magnétron remonte au milieu du 19ème siècle avec les premières observations des phénomènes de pulvérisation. Toutefois, ce n'est qu'au milieu du 20e siècle que la pulvérisation est devenue commercialement pertinente, en particulier avec le développement de la pulvérisation à diode dans les années 1940. La véritable avancée de la technologie de pulvérisation a eu lieu avec l'introduction de la pulvérisation magnétron dans les années 1970, qui a considérablement amélioré l'efficacité et l'applicabilité du processus.
Premiers développements (1850-1940) :
La pulvérisation a été observée pour la première fois dans les années 1850, où elle était utilisée pour le dépôt de métaux réfractaires qui ne pouvaient pas être déposés par évaporation thermique. Le procédé consistait à utiliser une décharge électrique pour déposer des films métalliques sur une cathode froide. Cette première forme de pulvérisation était limitée et n'a pas été largement adoptée en raison de sa faible efficacité et de son coût élevé.Pertinence commerciale et pulvérisation cathodique (années 1940-1960) :
Les années 1940 ont vu l'introduction de la pulvérisation cathodique, qui a commencé à trouver des applications commerciales en tant que procédé de revêtement. Malgré son adoption initiale, la pulvérisation cathodique a encore rencontré des difficultés en raison de ses faibles taux de dépôt et de ses coûts élevés, ce qui a limité son utilisation à grande échelle.
Introduction de la pulvérisation magnétron (années 1970) :
La véritable percée dans la technologie de pulvérisation a eu lieu au milieu des années 1970 avec le développement de la pulvérisation magnétron. Cette technique implique l'utilisation d'un champ magnétique fermé sur la surface de la cible, qui améliore l'efficacité de la génération de plasma en augmentant la probabilité de collisions entre les électrons et les atomes d'argon près de la surface de la cible. Cette innovation a considérablement augmenté les taux de dépôt et réduit les coûts, faisant de la pulvérisation magnétron une méthode privilégiée pour diverses applications dans des industries telles que la microélectronique et le verre architectural.
