Four CVD & PECVD
Système de chambre de dépôt chimique en phase vapeur CVD Équipement Four tubulaire PECVD avec gazéificateur liquide Machine PECVD
Numéro d'article : KT-PE12
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température maximale
- 1200 ℃
- Température de travail constante
- 1100 ℃
- Diamètre du tube du four
- 60 mm
- Longueur de la zone de chauffage
- 1x450 mm
- Vitesse de chauffage
- 0-20 ℃/min
- Distance de glissement
- 600mm
Livraison:
Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.
Pourquoi Nous Choisir
Partenaire FiableProcessus de commande facile, produits de qualité et support dédié pour le succès de votre entreprise.
Introduction
La machine PECVD à gazéificateur liquide dans un four tubulaire coulissant PECVD est un système polyvalent et haute performance conçu pour une large gamme d'applications de dépôt de couches minces. Elle comprend une source de plasma RF de 500W, un four coulissant, un contrôle précis du débit de gaz et une station de vide. Le système offre des avantages tels que la correspondance automatique du plasma, le chauffage et le refroidissement à haute vitesse, le contrôle de température programmable et une interface conviviale. Il est largement utilisé dans les environnements de recherche et de production pour le dépôt de couches minces dans diverses industries, notamment l'électronique, les semi-conducteurs et l'optique.
Applications
La machine PECVD à gazéificateur liquide dans un four tubulaire coulissant PECVD trouve ses applications dans :
- Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
- Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
- Dépôt de couches minces
- Fabrication de cellules solaires
- Traitement des semi-conducteurs
- Nanotechnologie
- Science des matériaux
- Recherche et développement
Différents systèmes CVD à température et configuration disponibles
Principe
La machine PECVD à gazéificateur liquide dans un four tubulaire coulissant PECVD utilise un plasma à basse température pour générer une décharge luminescente dans la cathode de la chambre de processus (plateau d'échantillons). La décharge luminescente (ou une autre source de chaleur) élève la température de l'échantillon à un niveau prédéterminé. Ensuite, des quantités contrôlées de gaz de processus sont introduites, subissant des réactions chimiques et plasmatiques pour former un film solide sur la surface de l'échantillon.
Caractéristiques
La machine PECVD à gazéificateur liquide dans un four tubulaire coulissant PECVD offre de nombreux avantages aux utilisateurs :
- Génération de puissance améliorée pour les plaquettes de cellules solaires : La structure innovante du panier en graphite améliore considérablement la puissance de sortie des cellules solaires.
- Élimination de la différence de couleur dans les cellules PECVD tubulaires : Cet équipement résout efficacement le problème de la variation de couleur dans les cellules PECVD tubulaires.
- Large plage de puissance de sortie (5-500W) : La source de correspondance automatique du plasma RF offre une plage de puissance de sortie polyvalente, garantissant des performances optimales pour diverses applications.
- Chauffage et refroidissement à haute vitesse : Le système coulissant de la chambre du four permet un chauffage et un refroidissement rapides, réduisant le temps de traitement. La circulation d'air forcée auxiliaire accélère encore le taux de refroidissement.
- Mouvement coulissant automatisé : La fonction de mouvement coulissant en option permet un fonctionnement automatique, améliorant l'efficacité et réduisant l'intervention manuelle.
- Contrôle précis de la température : Le contrôle de température programmable PID assure une régulation précise de la température, prenant en charge le contrôle à distance et centralisé pour plus de commodité.
- Contrôle de débitmètre massique MFC de haute précision : Le débitmètre massique MFC contrôle précisément les gaz sources, assurant une alimentation en gaz stable et constante.
- Station de vide polyvalente : La bride de vide en acier inoxydable avec plusieurs ports d'adaptation accueille diverses configurations de station de pompe à vide, garantissant un haut degré de vide.
- Interface conviviale : Le contrôleur à écran tactile TFT CTF Pro de 7 pouces simplifie la configuration du programme et permet une analyse facile des données historiques.
Avantages
- Source de correspondance automatique du plasma RF, large plage de puissance de sortie de 5 à 500W, sortie stable
- Système coulissant de la chambre du four pour un chauffage rapide et un refroidissement de courte durée, un refroidissement rapide auxiliaire et un mouvement coulissant automatique sont disponibles
- Contrôle de température programmable PID, excellente précision de contrôle et prise en charge du contrôle à distance et du contrôle centralisé
- Contrôle de débitmètre massique MFC de haute précision, prémélange des gaz sources et vitesse d'alimentation en gaz stable
- Bride de vide en acier inoxydable avec divers ports d'adaptation pour répondre à différentes configurations de station de pompe à vide, bonne étanchéité et haut degré de vide
- CTF Pro utilise un contrôleur à écran tactile TFT de 7 pouces, une configuration de programme plus conviviale et une analyse des données historiques
Avantage de sécurité
- Le four tubulaire Kindle Tech possède une protection contre les surintensités et une fonction d'alarme de surchauffe, le four coupera automatiquement l'alimentation
- Le four intègre une fonction de détection de thermocouple, le four arrêtera le chauffage et l'alarme s'activera une fois une rupture ou une défaillance détectée
- PE Pro prend en charge la fonction de redémarrage après panne de courant, le four reprendra le programme de chauffage du four lorsque l'alimentation sera rétablie après une panne
Spécifications techniques
| Modèle de four | KT-PE12-60 |
| Température max. | 1200℃ |
| Température de travail constante | 1100℃ |
| Matériau du tube de four | Quartz de haute pureté |
| Diamètre du tube de four | 60mm |
| Longueur de la zone chauffante | 1x450mm |
| Matériau de la chambre | Fibre d'alumine japonaise |
| Élément chauffant | Bobine de fil Cr2Al2Mo2 |
| Vitesse de chauffage | 0-20℃/min |
| Thermocouple | Intégré type K |
| Contrôleur de température | Contrôleur numérique PID/Contrôleur PID tactile |
| Précision du contrôle de température | ±1℃ |
| Distance de glissement | 600mm |
| Unité plasma RF | |
| Puissance de sortie | 5 -500W réglable avec une stabilité de ± 1% |
| Fréquence RF | 13,56 MHz ±0,005% de stabilité |
| Puissance réfléchie | 350W max. |
| Adaptation | Automatique |
| Bruit | <50 dB |
| Refroidissement | Refroidissement par air. |
| Unité de contrôle précis des gaz | |
| Débitmètre | Débitmètre massique MFC |
| Canaux de gaz | 4 canaux |
| Débit | MFC1 : 0-5 SCCM O2 MFC2 : 0-20 SCCM CH4 MFC3 : 0-100 SCCM H2 MFC4 : 0-500 SCCM N2 |
| Linéarité | ±0,5% F.S. |
| Répétabilité | ±0,2% F.S. |
| Tuyauterie et vanne | Acier inoxydable |
| Pression de fonctionnement maximale | 0,45 MPa |
| Contrôleur de débitmètre | Contrôleur à bouton numérique/Contrôleur tactile |
| Unité de vide standard (en option) | |
| Pompe à vide | Pompe à vide à palettes rotatives |
| Débit de la pompe | 4 L/S |
| Port d'aspiration de vide | KF25 |
| Manomètre à vide | Manomètre à vide Pirani/à résistance de silicium |
| Pression de vide nominale | 10 Pa |
| Unité de vide poussé (en option) | |
| Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives + pompe moléculaire |
| Débit de la pompe | 4 L/S + 110 L/S |
| Port d'aspiration de vide | KF25 |
| Manomètre à vide | Manomètre à vide combiné |
| Pression de vide nominale | 6x10-4 Pa |
| Les spécifications et configurations ci-dessus peuvent être personnalisées | |
Colis standard
| No. | Description | Quantité |
| 1 | Four | 1 |
| 2 | Tube de quartz | 1 |
| 3 | Bride de vide | 2 |
| 4 | Bloc thermique de tube | 2 |
| 5 | Crochet de bloc thermique de tube | 1 |
| 6 | Gant résistant à la chaleur | 1 |
| 7 | Source de plasma RF | 1 |
| 8 | Contrôle précis des gaz | 1 |
| 9 | Unité de vide | 1 |
| 10 | Manuel d'utilisation | 1 |
Configuration optionnelle
- Détection et surveillance des gaz dans le tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour le contrôle à distance par PC et l'exportation de données
- Contrôle du débit des gaz d'insertion, comme débitmètre massique et débitmètre à flotteur
- Contrôleur de température à écran tactile avec des fonctions conviviales polyvalentes
- Configurations de station de pompe à vide poussé, comme pompe à vide à palettes, pompe moléculaire, pompe à diffusion
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
KinTek fournit un service et des équipements sur mesure aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables de entreprendre les exigences en matière d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et aider notre client à constituer l'équipement exclusif et personnalisé et solution!
FAQ
Qu'est-ce Que La Méthode PECVD ?
Qu'est-ce Que Mpcvd ?
A Quoi Sert Le PECVD ?
Qu'est-ce Qu'une Machine Mpcvd ?
Quels Sont Les Avantages Du PECVD ?
Quels Sont Les Avantages De Mpcvd ?
Quelle Est La Différence Entre ALD Et PECVD ?
Les Diamants CVD Sont-ils Vrais Ou Faux ?
Quelle Est La Différence Entre Le PECVD Et La Pulvérisation ?
4.9
out of
5
I'm amazed by the quick delivery and the quality of the product. It's a game-changer for our lab.
4.8
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our research facility.
4.7
out of
5
This PECVD machine is a lifesaver! It has helped us achieve remarkable results in our research.
4.9
out of
5
The durability of this product is exceptional. It has withstood rigorous use in our lab.
4.8
out of
5
The technological advancements in this PECVD system have revolutionized our research capabilities.
4.7
out of
5
I highly recommend this product. It's worth every penny and has enhanced our research efficiency.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace is a fantastic investment. It has accelerated our research progress significantly.
4.8
out of
5
This PECVD system is user-friendly and has simplified our research procedures.
4.7
out of
5
The technical support provided by KINTEK SOLUTION is outstanding. They're always ready to assist us.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has revolutionized our research methodology. It's a must-have for any lab.
4.8
out of
5
This PECVD machine is a game-changer. It has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.
Produits
Système de chambre de dépôt chimique en phase vapeur CVD Équipement Four tubulaire PECVD avec gazéificateur liquide Machine PECVD
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Obtenez votre four CVD exclusif avec le four polyvalent KT-CTF16 fabriqué sur mesure par le client. Fonctions de glissement, de rotation et d'inclinaison personnalisables pour des réactions précises. Commandez maintenant !
Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence RF PECVD
RF-PECVD est l'acronyme de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Il dépose du DLC (film de carbone amorphe type diamant) sur des substrats de germanium et de silicium. Il est utilisé dans la gamme de longueurs d'onde infrarouges de 3 à 12 µm.
Découvrez la machine MPCVD à résonateur cylindrique, la méthode de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes utilisée pour la croissance de pierres précieuses et de films de diamant dans les industries de la bijouterie et des semi-conducteurs. Découvrez ses avantages économiques par rapport aux méthodes traditionnelles HPHT.
Machine à diamant MPCVD 915 MHz et sa croissance cristalline efficace multicristalline, la zone maximale peut atteindre 8 pouces, la zone de croissance efficace maximale de monocristal peut atteindre 5 pouces. Cet équipement est principalement utilisé pour la production de films de diamant polycristallin de grande taille, la croissance de diamants monocristallins longs, la croissance à basse température de graphène de haute qualité et d'autres matériaux qui nécessitent de l'énergie fournie par le plasma micro-ondes pour la croissance.
Four de Pressage à Chaud sous Vide Machine de Pressage sous Vide Chauffée
Découvrez les avantages du four de pressage à chaud sous vide ! Fabriquez des métaux réfractaires denses & des composés, des céramiques et des composites sous haute température et pression.
Four à atmosphère d'hydrogène contrôlée à l'azote
Four à atmosphère d'hydrogène KT-AH - four à gaz à induction pour frittage/recuit avec fonctions de sécurité intégrées, conception à double enveloppe et efficacité énergétique. Idéal pour une utilisation en laboratoire et industrielle.
Four de fusion à induction par arc sous vide non consommable
Découvrez les avantages du four à arc sous vide non consommable avec des électrodes à point de fusion élevé. Petit, facile à utiliser et écologique. Idéal pour la recherche en laboratoire sur les métaux réfractaires et les carbures.
Four à atmosphère contrôlée 1200℃ Four à atmosphère inerte d'azote
Découvrez notre four à atmosphère contrôlée KT-12A Pro - haute précision, chambre sous vide robuste, contrôleur polyvalent à écran tactile intelligent et excellente uniformité de température jusqu'à 1200°C. Idéal pour les applications de laboratoire et industrielles.
Four de frittage par plasma à étincelles Four SPS
Découvrez les avantages des fours de frittage par plasma à étincelles pour la préparation rapide de matériaux à basse température. Chauffage uniforme, faible coût et respectueux de l'environnement.
Stérilisateur d'espace au peroxyde d'hydrogène VHP H2O2
Un stérilisateur d'espace au peroxyde d'hydrogène est un appareil qui utilise du peroxyde d'hydrogène vaporisé pour décontaminer les espaces clos. Il tue les microorganismes en endommageant leurs composants cellulaires et leur matériel génétique.
Les fours de frittage sous vide et pression sont conçus pour les applications de pressage à chaud à haute température dans le frittage de métaux et de céramiques. Leurs caractéristiques avancées garantissent un contrôle précis de la température, un maintien fiable de la pression et une conception robuste pour un fonctionnement sans faille.
Presse hydraulique manuelle chauffante haute température avec plaques chauffantes pour laboratoire
La presse à chaud haute température est une machine spécialement conçue pour presser, fritter et traiter les matériaux dans un environnement à haute température. Elle est capable de fonctionner dans la gamme de centaines de degrés Celsius à des milliers de degrés Celsius pour diverses exigences de processus à haute température.
La presse à chaud haute température est une machine spécialement conçue pour presser, fritter et traiter les matériaux dans un environnement à haute température. Elle est capable de fonctionner dans la gamme de centaines de degrés Celsius à des milliers de degrés Celsius pour diverses exigences de processus à haute température.
Articles associés
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) : Un guide complet
Apprenez tout ce que vous devez savoir sur le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), une technique de dépôt de couches minces utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs. Découvrez ses principes, ses applications et ses avantages.
Comprendre le PECVD : un guide pour le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
Le PECVD est une technique utile pour créer des revêtements en couches minces car il permet le dépôt d'une grande variété de matériaux, y compris des oxydes, des nitrures et des carbures.
Four PECVD Une solution basse consommation et basse température pour la matière molle
Les fours PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) sont devenus une solution populaire pour le dépôt de couches minces sur des surfaces de matière molle.
Avantages de l'utilisation du four tubulaire CVD pour le revêtement
Les revêtements CVD présentent plusieurs avantages par rapport aux autres méthodes de revêtement, tels qu'une pureté, une densité et une uniformité élevées, ce qui les rend idéaux pour de nombreuses applications dans diverses industries.
Un guide étape par étape du processus PECVD
Le PECVD est un type de procédé de dépôt chimique en phase vapeur qui utilise le plasma pour améliorer les réactions chimiques entre les précurseurs en phase gazeuse et le substrat.
Le rôle du plasma dans les revêtements PECVD
PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) est un type de procédé de dépôt de couches minces largement utilisé pour créer des revêtements sur divers substrats. Dans ce processus, un plasma est utilisé pour déposer des films minces de divers matériaux sur un substrat.
Un guide complet sur la maintenance des équipements PECVD
Un bon entretien de l'équipement PECVD est crucial pour assurer ses performances, sa longévité et sa sécurité optimales.
Comparaison des performances de PECVD et HPCVD dans les applications de revêtement
Bien que le PECVD et le HFCVD soient tous deux utilisés pour les applications de revêtement, ils diffèrent en termes de méthodes de dépôt, de performances et d'adéquation à des applications spécifiques.
Comprendre la méthode PECVD
Le PECVD est un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma qui est largement utilisé dans la production de couches minces pour diverses applications.
Un guide complet des fours tubulaires divisés : applications, caractéristiques
Il est exact qu'un four tubulaire divisé est un type d'équipement de laboratoire qui se compose d'un tube ou d'une chambre creux qui peut être ouvert pour permettre l'insertion et le retrait d'échantillons ou de matériaux chauffés.
Pourquoi le PECVD est essentiel pour la fabrication de dispositifs microélectroniques
PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) est une technique de dépôt de couches minces populaire utilisée dans la fabrication de dispositifs microélectroniques.
Un guide du débutant sur les machines MPCVD
Le MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces de matériau sur un substrat à l'aide d'un plasma généré par des micro-ondes.