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Préparation d'échantillons pour la microscopie électronique à transmission : Des bases aux compétences pratiques

Préparation d'échantillons pour la microscopie électronique à transmission : Des bases aux compétences pratiques

il y a 3 mois

Guide détaillé sur la préparation des échantillons TEM, couvrant le nettoyage, le broyage, le polissage, la fixation et les techniques de couverture.

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Six techniques de préparation des échantillons pour la spectroscopie infrarouge

Six techniques de préparation des échantillons pour la spectroscopie infrarouge

il y a 3 mois

Vue d'ensemble des différentes méthodes de préparation des échantillons pour l'analyse spectrale infrarouge.

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Spectroscopie infrarouge in situ : Principes, exigences en matière d'échantillons et méthodes de préparation

Spectroscopie infrarouge in situ : Principes, exigences en matière d'échantillons et méthodes de préparation

il y a 3 mois

Une vue d'ensemble des principes, des exigences en matière d'échantillons et des méthodes de préparation pour la spectroscopie infrarouge in situ.

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Préparation et mécanisme de croissance des couches minces de diamant par dépôt chimique en phase vapeur

Préparation et mécanisme de croissance des couches minces de diamant par dépôt chimique en phase vapeur

il y a 3 mois

Cet article explore les méthodes de préparation et les mécanismes de croissance des couches minces de diamant par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), en soulignant les défis et les applications potentielles.

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Applications avancées des diamants cultivés dans les semi-conducteurs et la fabrication haut de gamme

Applications avancées des diamants cultivés dans les semi-conducteurs et la fabrication haut de gamme

il y a 3 mois

Il traite de l'utilisation des diamants cultivés dans les semi-conducteurs, la dissipation de la chaleur et la fabrication de pointe.

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Perspectives de marché et applications des diamants CVD

Perspectives de marché et applications des diamants CVD

il y a 3 mois

Explore les propriétés uniques des diamants CVD, leurs méthodes de préparation et leurs diverses applications dans différents domaines.

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Applications du diamant monocristallin MPCVD dans les domaines des semi-conducteurs et de l'affichage optique

Applications du diamant monocristallin MPCVD dans les domaines des semi-conducteurs et de l'affichage optique

il y a 3 mois

Cet article traite des applications du diamant monocristallin MPCVD dans les domaines des semi-conducteurs et de l'affichage optique, en soulignant ses propriétés supérieures et son impact potentiel sur diverses industries.

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Progrès dans le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes pour la préparation de diamants monocristallins de grande taille

Progrès dans le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes pour la préparation de diamants monocristallins de grande taille

il y a 3 mois

Cet article traite des progrès et des défis liés à la préparation de diamants monocristallins de grande taille à l'aide de techniques de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD).

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Application de l'enduction sous vide sur le verre architectural

Application de l'enduction sous vide sur le verre architectural

il y a 3 mois

Un examen approfondi des méthodes et des avantages du revêtement sous vide sur le verre architectural, en mettant l'accent sur l'efficacité énergétique, l'esthétique et la durabilité.

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Facteurs affectant l'adhésion des films pulvérisés par magnétron

Facteurs affectant l'adhésion des films pulvérisés par magnétron

il y a 3 mois

Une analyse approfondie des facteurs clés influençant l'adhésion des films préparés par la technologie de pulvérisation cathodique magnétron.

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Revêtement de type diamant (DLC) et ses applications

Revêtement de type diamant (DLC) et ses applications

il y a 3 mois

Explore les propriétés et les diverses applications des revêtements en carbone diamanté (DLC).

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Comprendre et prévenir l'empoisonnement des cibles de pulvérisation cathodique magnétron

Comprendre et prévenir l'empoisonnement des cibles de pulvérisation cathodique magnétron

il y a 3 mois

Examine le phénomène d'empoisonnement des cibles dans la pulvérisation cathodique magnétron, ses causes, ses effets et les mesures préventives.

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Impact de diverses alimentations électriques sur la morphologie des films pulvérisés

Impact de diverses alimentations électriques sur la morphologie des films pulvérisés

il y a 3 mois

Cet article traite de la manière dont les différentes alimentations électriques affectent la morphologie des couches de film pulvérisé, en se concentrant sur les alimentations DC, PDC et RF.

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Analyse de l'ablation sévère dans la région centrale des cibles céramiques lors de la pulvérisation cathodique par magnétron

Analyse de l'ablation sévère dans la région centrale des cibles céramiques lors de la pulvérisation cathodique par magnétron

il y a 3 mois

Cet article examine les causes et les solutions de l'ablation sévère dans la région centrale des cibles céramiques lors de la pulvérisation magnétron.

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Mesure de la résistance au décollement des couches de film pulvérisé

Mesure de la résistance au décollement des couches de film pulvérisé

il y a 3 mois

Un guide approfondi sur la définition, les méthodes de mesure, les facteurs d'influence et l'équipement utilisé pour évaluer la résistance au pelage des couches de film pulvérisé.

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Contrôle de la tolérance de l'épaisseur du film dans le revêtement par pulvérisation cathodique magnétron

Contrôle de la tolérance de l'épaisseur du film dans le revêtement par pulvérisation cathodique magnétron

il y a 3 mois

Ce document traite des méthodes permettant de garantir la tolérance de l'épaisseur du film lors du revêtement par pulvérisation cathodique magnétron, afin d'obtenir des performances optimales du matériau.

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Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons : Avantages, inconvénients et applications

Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons : Avantages, inconvénients et applications

il y a 3 mois

Un examen approfondi des avantages et des inconvénients du revêtement par évaporation par faisceau d'électrons et de ses diverses applications dans l'industrie.

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Défis liés au dépôt d'un film TiN à l'aide d'un courant alternatif et solutions

Défis liés au dépôt d'un film TiN à l'aide d'un courant alternatif et solutions

il y a 3 mois

Examine les difficultés liées à la croissance d'un film de TiN sous courant alternatif et propose des solutions telles que la pulvérisation cathodique et le courant continu pulsé.

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Vue d'ensemble des procédés de revêtement PVD

Vue d'ensemble des procédés de revêtement PVD

il y a 3 mois

Un examen approfondi des principes, des types, des applications gazeuses et des utilisations pratiques des procédés de revêtement PVD.

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Conception de systèmes à couches minces : Principes, considérations et applications pratiques

Conception de systèmes à couches minces : Principes, considérations et applications pratiques

il y a 3 mois

Exploration approfondie des principes de conception des systèmes à couches minces, des considérations technologiques et des applications pratiques dans divers domaines.

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Questions relatives à la pulvérisation magnétron : Pourquoi une incandescence se produit-elle mais aucun film n'est déposé ?

Questions relatives à la pulvérisation magnétron : Pourquoi une incandescence se produit-elle mais aucun film n'est déposé ?

il y a 3 mois

Analyse des facteurs causant l'absence de dépôt de film en dépit de l'incandescence lors de la pulvérisation magnétron.

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Facteurs affectant l'uniformité de la pulvérisation magnétron

Facteurs affectant l'uniformité de la pulvérisation magnétron

il y a 3 mois

Examine les facteurs clés qui influencent l'uniformité du dépôt de couches minces par pulvérisation magnétron, notamment les paramètres de l'équipement, la puissance de pulvérisation, la pression du gaz, la configuration du champ magnétique, les propriétés du substrat, etc.

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Sélection des matériaux de revêtement sous vide : Facteurs clés et considérations

Sélection des matériaux de revêtement sous vide : Facteurs clés et considérations

il y a 3 mois

Lignes directrices sur le choix des matériaux de revêtement sous vide en fonction de l'application, des propriétés des matériaux, des méthodes de dépôt, de l'économie, de la compatibilité avec les substrats et de la sécurité.

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Défis liés à l'obtention d'une décharge luminescente avec des cibles de rhénium dans le cadre de la pulvérisation magnétron

Défis liés à l'obtention d'une décharge luminescente avec des cibles de rhénium dans le cadre de la pulvérisation magnétron

il y a 3 mois

Explore les raisons pour lesquelles les cibles de rhénium peinent à briller lors de la pulvérisation cathodique magnétron et propose des suggestions d'optimisation.

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Paramètres affectant l'effet de pulvérisation dans le processus de pulvérisation magnétron

Paramètres affectant l'effet de pulvérisation dans le processus de pulvérisation magnétron

il y a 3 mois

Paramètres clés influençant l'effet de pulvérisation dans la pulvérisation magnétron, notamment la pression d'air, la puissance, la distance de la cible, le type de substrat, etc.

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Contrôle de la couleur et applications des films d'oxyde de silicium évaporés

Contrôle de la couleur et applications des films d'oxyde de silicium évaporés

il y a 3 mois

Exploration des variations de couleur, des méthodes de contrôle et des applications pratiques des couches minces d'oxyde de silicium.

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Précautions pour la préparation des couches de film de titanate de zirconate de plomb (PZT) par pulvérisation magnétron

Précautions pour la préparation des couches de film de titanate de zirconate de plomb (PZT) par pulvérisation magnétron

il y a 3 mois

Directives et précautions pour la préparation des couches de film PZT par pulvérisation magnétron.

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Considérations relatives à l'application d'un revêtement par évaporation sur des substrats souples

Considérations relatives à l'application d'un revêtement par évaporation sur des substrats souples

il y a 3 mois

Facteurs clés de la réussite de l'enduction par évaporation sur des matériaux souples, garantissant la qualité et la performance.

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Types d'alimentations de polarisation dans la pulvérisation cathodique et leurs objectifs

Types d'alimentations de polarisation dans la pulvérisation cathodique et leurs objectifs

il y a 3 mois

Vue d'ensemble des types d'alimentation de polarisation dans la pulvérisation magnétron et de leur rôle dans l'amélioration de l'adhérence et de la densité du film.

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Comprendre les différences et les utilisations de la pulvérisation DC, MF et RF dans la préparation des couches minces

Comprendre les différences et les utilisations de la pulvérisation DC, MF et RF dans la préparation des couches minces

il y a 3 mois

Cet article explique les distinctions et les applications des techniques de pulvérisation DC, MF et RF dans la préparation des couches minces.

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