Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une méthode utilisée pour créer des couches minces et des revêtements sur différents substrats.
Ces substrats peuvent être des métaux, des céramiques, du verre ou des polymères.
Le processus consiste à transformer un matériau solide ou liquide en vapeur, puis à le condenser en un film mince sur une surface.
Le dépôt en phase vapeur est utilisé dans de nombreuses industries pour des applications nécessitant des propriétés spécifiques dans les films minces, telles qu'une meilleure résistance à l'usure, une dureté accrue et un aspect amélioré.
Qu'est-ce qu'un appareil de dépôt physique en phase vapeur (PVD) ? 4 étapes clés à comprendre
1. Gazéification du matériau de placage
La première étape du dépôt en phase vapeur consiste à transformer le matériau à revêtir en gaz.
Cela peut se faire par des méthodes telles que l'évaporation, la pulvérisation cathodique ou le dépôt plasma à l'arc.
Dans le cas de l'évaporation, le matériau est chauffé jusqu'à ce qu'il se transforme en vapeur.
Dans le cas de la pulvérisation cathodique, les atomes sont expulsés d'un matériau cible solide par des particules énergétiques.
La métallisation par plasma d'arc utilise un arc à haute intensité pour vaporiser le matériau cible.
2. Dépôt de la vapeur sur le substratUne fois que le matériau est à l'état de vapeur, il est déposé sur la surface du substrat.Cela se produit généralement dans un environnement gazeux à basse pression ou dans des conditions de plasma.
