La pulvérisation cathodique CC repose fondamentalement sur une source d'alimentation à courant continu (CC). Pour faciliter le processus, la pression de la chambre à vide est strictement maintenue dans une plage de 1 à 100 mTorr.
La pulvérisation cathodique CC se définit par l'utilisation d'une alimentation à courant continu et d'une fenêtre de pression opérationnelle spécifique de 1 à 100 mTorr, la distinguant des méthodes à courant alternatif à haute fréquence.
Les paramètres opérationnels clés
La source d'alimentation
La caractéristique principale de la pulvérisation cathodique CC est son alimentation. Comme son nom l'indique, elle utilise le courant continu (CC).
Cette configuration fournit un flux continu de charge électrique dans une seule direction. Elle contraste directement avec d'autres méthodes de pulvérisation qui reposent sur des courants alternatifs ou oscillants.
Exigences de pression de chambre
L'environnement à l'intérieur de la chambre de pulvérisation est tout aussi critique que la source d'alimentation.
Pour la pulvérisation cathodique CC, le système nécessite un environnement de vide contrôlé. La pression de fonctionnement typique pour ce processus se situe entre 1 et 100 mTorr.
Comparaison des configurations d'alimentation
Alimentations CC vs RF
Il est utile de comprendre ce que la pulvérisation cathodique CC n'est pas pour saisir pleinement sa configuration.
Alors que la pulvérisation cathodique CC utilise une source de courant continu, la pulvérisation cathodique RF utilise une source d'alimentation à courant alternatif (CA).
Différences de fréquence
Dans les configurations RF, l'alimentation est souvent une source à haute fréquence radioélectrique (RF).
Cette source est fréquemment fixée à une fréquence spécifique de 13,56 MHz, tandis que la pulvérisation cathodique CC ne repose pas sur cette oscillation à haute fréquence.
Résumé des exigences de pulvérisation cathodique
Si votre application spécifique nécessite une pulvérisation cathodique CC :
- Assurez-vous que votre alimentation est configurée pour une sortie en courant continu (CC).
- Maintenez la pression de votre chambre à vide strictement entre 1 et 100 mTorr.
Si vous rencontrez des spécifications de pulvérisation cathodique RF :
- Notez que ce processus nécessite une source à courant alternatif (CA), généralement à 13,56 MHz.
Sélectionner la bonne source d'alimentation et la bonne plage de pression est l'étape fondamentale pour établir un système de dépôt par pulvérisation cathodique fonctionnel.
Tableau récapitulatif :
| Caractéristique | Pulvérisation cathodique CC | Pulvérisation cathodique RF |
|---|---|---|
| Source d'alimentation | Courant continu (CC) | Courant alternatif (CA) |
| Pression de fonctionnement | 1 - 100 mTorr | Souvent inférieure à la CC |
| Fréquence | N/A (Continu) | Typiquement 13,56 MHz |
| Utilisation courante | Cibles conductrices | Cibles isolantes et conductrices |
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