Lorsqu'il s'agit de déposer de l'aluminium (Al) à l'aide d'un système de pulvérisation, le gaz porteur choisi est généralement de l'argon (Ar).
L'argon est largement utilisé comme gaz de pulvérisation dans la chambre de pulvérisation.
Ce gaz crée un plasma qui bombarde le matériau cible, tel que l'aluminium.
Le bombardement éjecte les atomes de la cible en aluminium dans le vide.
Ces atomes d'aluminium sont ensuite déposés sur le substrat pour former un film mince.
L'argon est le gaz porteur préféré car il est inerte et ne réagit pas chimiquement avec le matériau cible.
En outre, le poids atomique de l'argon est proche de celui de l'aluminium.
Cette similitude de poids atomique permet un transfert efficace de la quantité de mouvement au cours du processus de pulvérisation.
Quel gaz est utilisé comme gaz porteur pour le dépôt d'aluminium à l'aide du système de pulvérisation cathodique ? (3 points clés)
1. L'argon comme gaz de pulvérisation
Le gaz argon est le choix standard pour le gaz de pulvérisation dans la chambre de pulvérisation.
2. Création d'un plasma et bombardement de la cible
Le gaz argon crée un plasma qui bombarde la cible en aluminium.
Ce bombardement éjecte les atomes d'aluminium dans le vide.
3. Transfert efficace de la quantité de mouvement
Le poids atomique de l'argon est proche de celui de l'aluminium, ce qui facilite un transfert efficace de la quantité de mouvement pendant le processus de pulvérisation.
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