La chambre de dépôt nécessite un vide poussé, principalement pour garantir la pureté et la qualité des films déposés.
Cet objectif est atteint en minimisant la pression du gaz pour augmenter le libre parcours moyen des atomes vaporisés, en réduisant les niveaux de contamination et en améliorant le contrôle de la composition de la phase gazeuse et de la phase vapeur.
Pourquoi la chambre de dépôt est-elle sous vide poussé ? 4 raisons clés expliquées
1. Augmentation du libre parcours moyen
Dans un environnement de vide poussé, la pression du gaz est considérablement réduite.
Cela augmente le libre parcours moyen des atomes vaporisés.
Ces atomes parcourent de plus longues distances sans entrer en collision avec d'autres molécules de gaz.
Cet aspect est crucial car il empêche la nucléation de la suie dans la vapeur.
Il garantit que les atomes atteignent le substrat sans se disperser.
Il en résulte un dépôt plus uniforme et de meilleure qualité.
2. Niveaux de contamination réduits
Les conditions de vide poussé réduisent considérablement la présence de gaz de fond dans la chambre.
Ces gaz sont des sources potentielles de contamination.
Ceci est particulièrement important pour les applications sensibles à l'oxygène et à l'humidité.
Par exemple, les dispositifs organiques électroluminescents et les dispositifs photovoltaïques organiques.
Même des quantités infimes de ces gaz peuvent éteindre les espèces fonctionnelles actives.
En maintenant un vide de l'ordre de 10^-6 à 10^-9 Torr, la pureté des films évaporés est considérablement améliorée.
3. Meilleur contrôle de la composition des gaz et de la phase vapeur
L'environnement sous vide poussé permet aux techniciens de contrôler avec précision la composition des phases gazeuse et vapeur.
Ce contrôle est essentiel pour créer des films minces spécialisés.
Par exemple, ceux utilisés dans les revêtements optiques.
La composition chimique du film doit être exacte.
4. Des surfaces propres pour une meilleure adhérence
Un vide poussé garantit également la propreté des surfaces à l'intérieur de la chambre.
Cette propreté est essentielle.
Elle permet aux atomes évaporés de mieux adhérer au substrat.
Ils forment ainsi une couche stable et uniforme.
Sans un vide poussé, les atomes évaporés risquent de ne pas bien adhérer.
Cela pourrait conduire à un dépôt instable ou irrégulier.
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