Un revêtement plasma est un procédé utilisé pour appliquer de fines couches de matériaux sur un substrat afin d'en améliorer ou d'en modifier les propriétés. Cette technique permet de créer des revêtements aux caractéristiques variées : hydrophiles, hydrophobes, antireflets, isolants, conducteurs, résistants à l'usure, etc. Le choix entre le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) dépend de la nature du substrat et du type de revêtement souhaité.
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) :
Le PECVD consiste à utiliser le plasma pour renforcer les réactions chimiques nécessaires au dépôt de couches minces. Cette méthode est polyvalente et permet de produire des revêtements aux propriétés spécifiques en ajustant le milieu de traitement. Elle permet par exemple de créer des revêtements de carbone de type diamant (DLC), qui sont respectueux de l'environnement et offrent une surface dure, semblable à du diamant. Le procédé consiste à utiliser des hydrocarbures (une combinaison d'hydrogène et de carbone) qui, lorsqu'ils sont introduits dans le plasma, se dissocient puis se recombinent à la surface pour former une couche dure.Placage ionique :
Le placage ionique est une technique à base de plasma utilisée pour déposer des métaux tels que le titane, l'aluminium, le cuivre, l'or et le palladium. Les revêtements sont minces, allant généralement de 0,008 à 0,025 mm, et offrent des avantages tels qu'une meilleure adhérence, une meilleure finition de surface et un nettoyage in situ du substrat avant le dépôt. Toutefois, cette technique exige un contrôle précis des paramètres de traitement et peut entraîner des problèmes de contamination. Les applications comprennent les tubes à rayons X, les pales de turbine et la protection contre la corrosion dans les réacteurs nucléaires.
Implantation d'ions et dépôt par plasma :
