L'évaporation thermique est une technique de dépôt physique en phase vapeur (PVD) utilisée pour déposer des couches minces sur un substrat.
Cette méthode consiste à chauffer un matériau dans un environnement à vide poussé jusqu'à ce qu'il se vaporise.
Les molécules vaporisées se condensent ensuite sur un substrat, formant un film mince.
Qu'est-ce que la méthode de dépôt par évaporation thermique ? (4 étapes clés expliquées)
1. Environnement sous vide poussé
Le processus commence dans une chambre à vide.
Ceci est essentiel pour éviter les interférences des particules de gaz pendant le dépôt.
Le vide est maintenu par une pompe à vide, ce qui garantit que la pression est faible autour du matériau source.
Cela améliore l'efficacité de l'évaporation.
2. Chauffer le matériau
Le matériau à déposer, appelé évaporant, est placé dans un creuset ou une cuve en matériaux réfractaires tels que le tungstène ou le molybdène.
Ce récipient est chauffé, généralement par chauffage joule, à une température suffisamment élevée pour que le matériau se vaporise.
3. Transport de la vapeur et condensation
Une fois vaporisées, les molécules se déplacent dans le vide pour atteindre le substrat.
Au contact du substrat plus froid, la vapeur se condense, formant un film mince.
Ce processus peut être répété pour faire croître et nucléer la couche mince.
4. Polyvalence
L'évaporation thermique est un procédé polyvalent, capable de déposer une large gamme de matériaux, y compris des métaux comme l'aluminium, l'argent, le nickel et d'autres.
Cette polyvalence, associée à la simplicité du processus, fait de l'évaporation thermique un choix populaire en laboratoire et dans l'industrie.
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