La pression minimale pouvant être atteinte dans une chambre à vide peut varier en fonction du type et de la conception de la chambre.
Pour une chambre à vide en forme de boîte rectangulaire conçue pour des applications sous ultravide (UHV), la pression peut descendre jusqu'à 100 nanopascals (ce qui équivaut à 10^-7 Torr).
Cette pression est nettement inférieure aux pressions généralement atteintes dans d'autres types de chambres à vide.
4 facteurs clés à prendre en compte pour obtenir une pression minimale dans une chambre à vide
1. Chambres à vide en forme de boîte rectangulaire
Ces chambres sont spécifiquement conçues pour des conditions de vide très poussé.
Leur conception permet de créer des pressions extrêmement basses, qui sont nécessaires pour divers processus scientifiques et industriels tels que le dépôt de films, les tests de tribologie et la simulation des conditions de l'espace extra-atmosphérique.
La capacité à atteindre des pressions aussi basses est cruciale pour minimiser la contamination et garantir l'intégrité des processus menés dans ces chambres.
2. Mesure et contrôle de la pression
La pression à l'intérieur des chambres à vide est contrôlée à l'aide de jauges spécialisées.
Par exemple, le système de dépôt modèle DTT utilise un manomètre à gamme complète de la société Leybold, qui peut mesurer les pressions des niveaux atmosphériques jusqu'à 10^-9 Torr.
Cette précision dans les mesures est essentielle pour maintenir et ajuster les niveaux de vide en fonction des exigences des différents processus.
3. Les niveaux de vide et leur importance
Le texte décrit différentes catégories de pressions de vide, allant du vide grossier/faible (1000 à 1 mbar) au vide extrêmement poussé (< 10^-11 mbar).
Le choix du niveau de vide dépend des besoins spécifiques du processus.
Par exemple, dans les processus d'évaporation thermique, la pression doit être suffisamment basse pour garantir un long trajet libre moyen, qui est généralement d'environ 3,0 x 10^-4 Torr ou moins.
Cela est nécessaire pour éviter les collisions entre les particules et pour maintenir la directionnalité du processus de dépôt.
4. Gaz inerte et vide poussé
Le texte compare également la propreté des environnements obtenue en utilisant un gaz inerte à la pression atmosphérique par rapport à un vide poussé.
Alors qu'un environnement de gaz inerte peut théoriquement atteindre des pressions partielles d'impuretés de 0,001 mbar, un environnement de vide poussé peut atteindre des pressions inférieures à 0,0001 mbar, ce qui offre un environnement nettement plus propre pour les processus sensibles.
En résumé, la pression minimale dans une chambre à vide peut être aussi basse que 100 nanopascals (10^-7 Torr) pour les chambres UHV spécialisées, ce qui est crucial pour diverses applications scientifiques et industrielles de haute précision.
Le contrôle et la mesure précis de ces basses pressions sont facilités par des manomètres avancés et une conception soignée des chambres à vide.
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