Un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est un système complexe conçu pour déposer des couches minces sur des substrats.
8 parties essentielles expliquées
1. Système d'alimentation en gaz
Ce système fournit les précurseurs à la chambre du réacteur.
2. Chambre du réacteur
C'est là que se produit le dépôt de la couche mince.
3. Mécanisme de chargement des substrats
Ce système introduit et retire les substrats de la chambre du réacteur.
4. Source d'énergie
Elle fournit la chaleur ou l'énergie nécessaire aux réactions chimiques.
5. Système de vide
Il maintient un environnement contrôlé en éliminant les gaz indésirables.
6. Système d'échappement
Il élimine les sous-produits volatils et les gaz excédentaires.
7. Systèmes de traitement des gaz d'échappement
Ils traitent les composants nocifs ou toxiques présents dans les gaz d'échappement.
8. Équipement de contrôle des procédés
Il s'agit de jauges, de commandes et de systèmes de surveillance de paramètres tels que la pression, la température et le temps.
Chaque composant est essentiel au fonctionnement efficace d'un réacteur CVD.
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