Dans le dépôt physique en phase vapeur (PVD), les gaz jouent un rôle crucial dans la formation de divers composés qui améliorent les propriétés du matériau du substrat.
Les 3 principaux gaz utilisés dans le dépôt en phase vapeur par procédé physique : Oxygène, azote et méthane
L'oxygène
L'oxygène est couramment utilisé dans le procédé PVD.
Il réagit avec les atomes de métal pour former des oxydes métalliques.
Cette réaction se produit pendant la phase de transport.
La formation d'oxydes métalliques est essentielle pour les applications nécessitant une résistance à l'oxydation et une dureté accrue.
L'azote
L'azote est un autre gaz clé utilisé dans le procédé PVD.
Il est particulièrement important dans les processus tels que la pulvérisation.
Le matériau cible est souvent un métal comme le titane.
La réaction entre l'azote et le titane conduit à la formation de nitrure de titane (TiN).
Le TiN est un composé dur et résistant à l'usure.
Cette réaction est renforcée par la présence d'azote gazeux dans l'environnement du plasma.
Le méthane
Le méthane est utilisé dans les procédés PVD pour former des carbures.
Il est particulièrement efficace lorsque le matériau cible est un métal qui peut former des carbures stables.
La réaction entre le méthane et les atomes de métal entraîne le dépôt de carbures métalliques.
Les carbures métalliques sont connus pour leur dureté et leur résistance à l'usure.
Ce gaz est généralement utilisé dans des applications spécifiques où la formation de carbures est bénéfique.
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