Les deux types de PVD (Physical Vapor Deposition) sont occlusifs et fonctionnels.
Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) occlusif consiste à créer une couche très fine de matériau par le biais du processus de dépôt physique en phase vapeur. Il s'agit d'une technique générale qui englobe plusieurs techniques spécifiques. L'objectif du dépôt en phase vapeur occlusif est de créer une barrière ou un joint à la surface d'un matériau. Ce type de revêtement PVD est généralement utilisé pour des applications nécessitant une résistance à la corrosion, à l'usure ou aux produits chimiques.
Le dépôt en phase vapeur (PVD) fonctionnel, quant à lui, implique également la création d'une fine couche de matériau par dépôt physique en phase vapeur. Toutefois, l'objectif du dépôt en phase vapeur fonctionnel est d'améliorer la fonctionnalité ou les performances du matériau. Il peut s'agir d'améliorer sa dureté, son pouvoir lubrifiant ou ses propriétés optiques. Les revêtements PVD fonctionnels sont couramment utilisés dans des industries telles que l'automobile, l'aérospatiale et l'électronique.
Il est important de noter que le PVD et le CVD (Chemical Vapor Deposition) sont deux méthodes différentes d'application de revêtements sur la surface d'un matériau. Le PVD est basé sur le dépôt physique en phase vapeur, tandis que le CVD est basé sur le dépôt chimique en phase vapeur. Les matériaux qu'ils peuvent déposer, les conditions dans lesquelles ils sont appliqués et les propriétés des revêtements qu'ils produisent peuvent différer.
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