La pulvérisation cathodique est une technique de dépôt de couches minces largement utilisée, mais elle présente plusieurs inconvénients qui peuvent avoir une incidence sur son efficacité et sa rentabilité.
10 points clés à prendre en compte
1. Dépenses d'investissement élevées
La pulvérisation cathodique nécessite un investissement initial important en raison de la complexité de l'équipement et de la nécessité de disposer de systèmes de vide sophistiqués.
2. Faibles taux de dépôt pour certains matériaux
Certains matériaux, tels que le SiO2, ont des taux de dépôt relativement faibles lorsqu'on utilise les techniques de pulvérisation cathodique.
3. Dégradation des matériaux due au bombardement ionique
Certains matériaux, en particulier les solides organiques, sont susceptibles de se dégrader au cours du processus de pulvérisation en raison du bombardement ionique à haute énergie.
4. Plus grande tendance à l'introduction d'impuretés
La pulvérisation fonctionne sous un vide plus faible que les méthodes d'évaporation, ce qui peut entraîner une plus grande incidence d'impuretés dans les films déposés.
5. Distribution non uniforme du flux de dépôt
Dans de nombreuses configurations de pulvérisation, la distribution du flux de dépôt n'est pas uniforme, ce qui peut entraîner des films d'épaisseur non uniforme.
6. Cibles coûteuses et utilisation inefficace des matériaux
Les cibles de pulvérisation sont souvent coûteuses et le processus peut être inefficace en termes d'utilisation des matériaux.
7. Conversion de l'énergie en chaleur
La majeure partie de l'énergie incidente sur la cible pendant la pulvérisation est convertie en chaleur, qui doit être gérée efficacement pour éviter d'endommager l'équipement et le substrat.
8. Activation des contaminants gazeux
Dans certains cas, les contaminants gazeux présents dans l'environnement de pulvérisation peuvent être activés par le plasma, ce qui entraîne une augmentation de la contamination du film.
9. Contrôle complexe de la composition des gaz dans la pulvérisation réactive
Dans la pulvérisation réactive, la composition du gaz doit être soigneusement contrôlée pour éviter l'empoisonnement de la cible de pulvérisation.
10. Difficultés liées à la combinaison avec le décollage pour la structuration
Le processus de pulvérisation est plus difficile à combiner avec les techniques de lift-off pour la structuration du film en raison de la nature diffuse des particules pulvérisées.
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