Connaissance Quelle est la basse température pour la croissance du graphène ?
Avatar de l'auteur

Équipe technique · Kintek Solution

Mis à jour il y a 1 semaine

Quelle est la basse température pour la croissance du graphène ?

La température de croissance du graphène peut être aussi basse que 725 °C, comme l'a démontré le processus de refroidissement d'un film mince de Ni de 900 °C à 725 °C, qui a entraîné la formation de 1,7 couche de graphène à la surface du film. Cette température est nettement inférieure aux températures typiques de décomposition pyrolytique, qui requièrent plus de 1000 °C. L'utilisation de substrats catalytiques métalliques dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) permet de réduire la température de réaction, ce qui facilite la décomposition des précurseurs du carbone et la formation du graphène.

Le processus implique l'adsorption des précurseurs de carbone sur la surface du catalyseur, suivie de leur décomposition en diverses espèces de carbone qui servent d'éléments de base pour la croissance du graphène. Cette méthode est particulièrement efficace dans les systèmes de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression, où même des pressions partielles très faibles peuvent favoriser la nucléation et la croissance du graphène en raison de la présence d'une contamination par le pétrole et le gaz.

En outre, l'utilisation de précurseurs de carbone liquides ou solides tels que le benzène et le naphtalène peut faciliter la croissance à basse température en raison de leur facilité de décomposition par rapport au méthane. Toutefois, ces précurseurs peuvent également s'adsorber sur les parois internes des chambres et des tuyaux du système, ce qui peut entraîner des problèmes de contamination qui affectent la fiabilité du système et la répétabilité de la production.

En résumé, alors que la croissance du graphène nécessite traditionnellement des températures élevées, les progrès réalisés dans le domaine du dépôt en phase vapeur assisté par catalyseur et l'utilisation de précurseurs de carbone spécifiques ont permis de synthétiser du graphène à des températures nettement plus basses, jusqu'à 725°C. Cette évolution est essentielle pour réduire les coûts énergétiques et améliorer la faisabilité de la production de graphène pour diverses applications.

Découvrez le potentiel innovant de la production de graphène à des températures plus basses que jamais ! KINTEK SOLUTION est à la pointe du progrès en matière de substrats catalytiques métalliques et de procédés CVD à basse pression, ce qui ouvre de nouvelles perspectives pour une fabrication de graphène efficace sur le plan énergétique et rentable. Rejoignez-nous pour ouvrir la voie à l'avenir de la science des matériaux grâce à nos solutions de pointe et à la qualité exceptionnelle de nos produits. Faites l'expérience de la transformation - demandez une consultation dès aujourd'hui !

Produits associés

Four de graphitisation à ultra haute température

Four de graphitisation à ultra haute température

Le four de graphitisation à ultra haute température utilise un chauffage par induction à moyenne fréquence dans un environnement sous vide ou sous gaz inerte. La bobine d'induction génère un champ magnétique alternatif, induisant des courants de Foucault dans le creuset en graphite, qui chauffe et rayonne de la chaleur vers la pièce, l'amenant à la température souhaitée. Ce four est principalement utilisé pour la graphitisation et le frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et d'autres matériaux composites.

Grand four de graphitisation vertical

Grand four de graphitisation vertical

Un grand four de graphitisation vertical à haute température est un type de four industriel utilisé pour la graphitisation de matériaux carbonés, tels que la fibre de carbone et le noir de carbone. Il s'agit d'un four à haute température pouvant atteindre des températures allant jusqu'à 3100°C.

Four de graphitisation de matériaux négatifs

Four de graphitisation de matériaux négatifs

Le four de graphitisation pour la production de batteries a une température uniforme et une faible consommation d'énergie. Four de graphitisation pour matériaux d'électrodes négatives : une solution de graphitisation efficace pour la production de batteries et des fonctions avancées pour améliorer les performances des batteries.

Four de graphitisation de film à haute conductivité thermique

Four de graphitisation de film à haute conductivité thermique

Le four de graphitisation de film à haute conductivité thermique a une température uniforme, une faible consommation d'énergie et peut fonctionner en continu.

Four expérimental de graphitisation IGBT

Four expérimental de graphitisation IGBT

Four de graphitisation expérimental IGBT, une solution sur mesure pour les universités et les instituts de recherche, avec une efficacité de chauffage élevée, une convivialité et un contrôle précis de la température.

Revêtement diamant CVD

Revêtement diamant CVD

Revêtement diamant CVD : conductivité thermique, qualité cristalline et adhérence supérieures pour les outils de coupe, les applications de friction et acoustiques

Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment

Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment

Le moule d'étirage du revêtement composite nano-diamant utilise du carbure cémenté (WC-Co) comme substrat et utilise la méthode chimique en phase vapeur (méthode CVD en abrégé) pour revêtir le diamant conventionnel et le revêtement composite nano-diamant sur la surface de l'orifice intérieur du moule.

Four de graphitisation continue

Four de graphitisation continue

Le four de graphitisation à haute température est un équipement professionnel pour le traitement par graphitisation des matériaux carbonés. Il s'agit d'un équipement clé pour la production de produits en graphite de haute qualité. Il a une température élevée, un rendement élevé et un chauffage uniforme. Il convient à divers traitements à haute température et traitements de graphitisation. Il est largement utilisé dans l’industrie métallurgique, électronique, aérospatiale, etc.

Four vertical de graphitisation à haute température

Four vertical de graphitisation à haute température

Four vertical de graphitisation à haute température pour la carbonisation et la graphitisation de matériaux carbonés jusqu'à 3 100 ℃. Convient à la graphitisation façonnée de filaments de fibre de carbone et d'autres matériaux frittés dans un environnement carboné. Applications en métallurgie, électronique et aérospatiale pour la production de produits en graphite de haute qualité comme électrodes et creusets.

Four de graphitisation horizontal à haute température

Four de graphitisation horizontal à haute température

Four de graphitisation horizontal : Ce type de four est conçu avec les éléments chauffants placés horizontalement, permettant un chauffage uniforme de l'échantillon. Il est bien adapté à la graphitisation d’échantillons volumineux ou volumineux qui nécessitent un contrôle précis de la température et une uniformité.

2200 ℃ Graphite Four à vide

2200 ℃ Graphite Four à vide

Découvrez la puissance du four à vide pour graphite KT-VG - avec une température de travail maximale de 2200℃, il est parfait pour le frittage sous vide de divers matériaux. En savoir plus.

Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD

Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD

Améliorez votre processus de revêtement avec l'équipement de revêtement PECVD. Idéal pour les LED, les semi-conducteurs de puissance, les MEMS, etc. Dépose des films solides de haute qualité à basse température.

Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client

Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client

Obtenez votre four CVD exclusif avec le four polyvalent fabriqué par le client KT-CTF16. Fonctions de glissement, de rotation et d'inclinaison personnalisables pour des réactions précises. Commandez maintenant!

Diamant CVD pour la gestion thermique

Diamant CVD pour la gestion thermique

Diamant CVD pour la gestion thermique : diamant de haute qualité avec une conductivité thermique jusqu'à 2 000 W/mK, idéal pour les dissipateurs de chaleur, les diodes laser et les applications GaN sur diamant (GOD).

Plaque Carbone Graphite - Isostatique

Plaque Carbone Graphite - Isostatique

Le graphite de carbone isostatique est pressé à partir de graphite de haute pureté. C'est un excellent matériau pour la fabrication de tuyères de fusée, de matériaux de décélération et de matériaux réfléchissants pour réacteurs en graphite.

Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence

Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence

RF-PECVD est un acronyme pour "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Ce procédé permet de déposer un film de carbone de type diamant (DLC) sur des substrats de germanium et de silicium. Il est utilisé dans la gamme de longueurs d'onde infrarouge 3-12um.

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Découvrez la machine MPCVD à résonateur cylindrique, la méthode de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à micro-ondes utilisée pour produire des pierres précieuses et des films en diamant dans les secteurs de la bijouterie et des semi-conducteurs. Découvrez ses avantages économiques par rapport aux méthodes HPHT traditionnelles.

Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons

Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons

Une technologie principalement utilisée dans le domaine de l'électronique de puissance. Il s'agit d'un film de graphite constitué d'un matériau source de carbone par dépôt de matériau à l'aide de la technologie à faisceau d'électrons.

Creuset d'évaporation en graphite

Creuset d'évaporation en graphite

Cuves pour applications à haute température, où les matériaux sont maintenus à des températures extrêmement élevées pour s'évaporer, permettant le dépôt de couches minces sur des substrats.

Four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples Machine CVD

Four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples Machine CVD

KT-CTF14 Four CVD à zones de chauffage multiples - Contrôle précis de la température et du débit de gaz pour les applications avancées. Température maximale jusqu'à 1200℃, débitmètre massique MFC à 4 canaux, et contrôleur à écran tactile TFT 7".

Cible de pulvérisation de carbone (C) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule

Cible de pulvérisation de carbone (C) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule

Vous recherchez des matériaux en carbone (C) abordables pour les besoins de votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nos matériaux produits et adaptés de manière experte sont disponibles dans une variété de formes, de tailles et de puretés. Choisissez parmi des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc.


Laissez votre message