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La préparation des échantillons
L'équipement de préparation d'échantillons KinTek comprend le broyage d'échantillons, le broyage, ainsi que l'équipement de tamisage, l'équipement de presse hydraulique comprend une presse manuelle, une presse électrique, une presse isostatique, une presse à chaud et une machine de filtrage de presse.
Presse isostatique
Presse de laboratoire manuelle
Presse de laboratoire électrique
Presse de laboratoire manuelle chauffée
Presse de laboratoire automatique chauffée
Presse sur mesure
Moules et accessoires
Machine de concassage et de broyage
Machine de tamisage
Équipement de fraisage
Poinçonneuse de comprimés
Analyseurs XRF portables
Machine de traitement du caoutchouc
Équipement thermique
KinTek fournit une large gamme de fours à haute température, y compris des fours de laboratoire, de production pilote et de production industrielle, avec une plage de température allant jusqu'à 3000 ℃. L'un des avantages de KinTek est la possibilité de créer des fours sur mesure adaptés à des fonctions spécifiques, telles que différentes méthodes et vitesses de chauffage, des vides très poussés et dynamiques, des atmosphères contrôlées et des circuits de gaz, des structures mécaniques automatisées et le développement de logiciels et de matériel.
Consommables et matériaux de laboratoire
KinTek propose une gamme de consommables et de matériaux de laboratoire, notamment des matériaux d'évaporation, des cibles, des métaux, des pièces d'électrochimie, ainsi que des poudres, des pastilles, des fils, des bandes, des feuilles, des plaques, etc.
Équipement biochimique
L'équipement biochimique KinTek comprend des évaporateurs rotatifs, des réacteurs en verre et en acier inoxydable, des systèmes de distillation, des réchauffeurs et des refroidisseurs à circulation, ainsi que des équipements sous vide.
Produits
Cible de pulvérisation de silicium (Si) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-SI
Cible de pulvérisation d'étain (Sn) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-SN
Cible de pulvérisation de tantale (Ta) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-TA
Cible de pulvérisation de tellure (Te) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-TE
Cible de pulvérisation de titane (Ti) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-TI
Cible de pulvérisation de vanadium (V) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-V
Cible de pulvérisation de tungstène (W) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-W
Cible de pulvérisation de zinc (Zn) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-ZN
Cible de pulvérisation de zirconium (Zr) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-ZR
Cible de pulvérisation d'hafnium (HF) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-HF
Cible de pulvérisation cathodique de rhénium (re) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-RE
Cible de pulvérisation d'iridium (Ir) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-IR
Cible de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-SIO2
Cible de pulvérisation d'oxyde d'hafnium de grande pureté (HfO2)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-HfO2
Cible de pulvérisation de dioxyde de titane de haute pureté (TiO2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Numéro d'article : LM-TiO2
Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium de grande pureté (ZrO2)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-ZrO2
Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène de grande pureté (WO3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-WO3
Cible de pulvérisation d'oxyde de niobium de grande pureté (Nb2O5)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Nb2O5
Cible de pulvérisation d'oxyde de tantale de grande pureté (Ta2O5)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Ta2O5
Cible de pulvérisation d'oxyde de molybdène de grande pureté (MoO3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-MoO3
Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium de grande pureté (Al2O3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Al2O3
Cible de pulvérisation d'oxyde de zinc (ZnO) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-ZnO
Cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MgO) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-MgO
Cible de pulvérisation d'oxyde de bismuth de grande pureté (Bi2O3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Bi2O3
Cible de pulvérisation d'oxyde de chrome de grande pureté (Cr2O3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Cr2O3
Cible de pulvérisation d'oxyde de nickel de grande pureté (Ni2O3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Ni2O3
Cible de pulvérisation d'oxyde de vanadium de grande pureté (V2O3)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-V2O3
Numéro d'article : LM-ITO
Cible de pulvérisation d'oxyde de fer de grande pureté (Fe3O4)/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-Fe3O4
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