L'évaporation par faisceau d'électrons est une technique de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Elle utilise un faisceau d'électrons focalisé pour chauffer et vaporiser le matériau source dans un environnement sous vide. Cela permet de déposer des revêtements minces et de haute pureté sur un substrat.
Comment fonctionne l'évaporation par faisceau d'électrons ? Expliqué en 4 étapes simples
1. Génération d'un faisceau d'électrons
Un courant électrique de haute tension (5-10 kV) traverse un filament de tungstène. Ce dernier est chauffé à des températures élevées et provoque l'émission thermionique d'électrons.
2. Focalisation et ciblage du faisceau
Les électrons émis sont concentrés en un faisceau unifié à l'aide de champs magnétiques. Ils sont ensuite dirigés vers un creuset contenant la matière à évaporer.
3. Évaporation du matériau
Le faisceau d'électrons à haute énergie transfère son énergie à la matière contenue dans le creuset. Celui-ci s'évapore ou se sublime.
4. Dépôt sur le substrat
Le matériau évaporé traverse la chambre à vide. Il se dépose sur un substrat placé au-dessus du matériau source, formant un revêtement mince et de haute pureté.
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