L'épaisseur de l'or pulvérisé peut varier en fonction des conditions spécifiques du processus de pulvérisation.
Elle est généralement très fine, souvent mesurée en nanomètres.
La formule fournie dans la référence suggère que l'épaisseur (Th) d'un revêtement Au/Pd pulvérisé dans de l'argon peut être calculée à l'aide de l'équation Th = 7,5 I t.
Dans cette équation, I est le courant en mA et t est le temps en minutes.
Par exemple, en utilisant un courant de 20 mA et un temps de 2 à 3 minutes, l'épaisseur serait d'environ 300 à 450 angströms (3 à 4,5 nm).
1. Processus de pulvérisation
La pulvérisation d'or consiste à déposer des atomes d'or sur un substrat dans une chambre à vide.
Des ions à haute énergie bombardent une cible d'or, provoquant l'éjection d'atomes d'or qui se déposent sur le substrat.
L'épaisseur de la couche d'or déposée dépend de l'intensité du bombardement ionique, de la distance entre la cible et le substrat et de la durée du processus de pulvérisation.
2. Calcul de l'épaisseur
La formule Th = 7,5 I t est spécifique aux conditions mentionnées (tension de 2,5KV, distance de 50 mm entre la cible et l'échantillon).
Elle calcule l'épaisseur en angströms, où 1 angström équivaut à 0,1 nanomètre.
Par conséquent, un revêtement de 300-450 angströms équivaut à 30-45 nm d'or.
3. Considérations relatives à l'application
L'or n'est pas idéal pour l'imagerie à fort grossissement en raison de son rendement élevé en électrons secondaires et de la formation de grands îlots ou grains lors de la pulvérisation.
Cela peut affecter la visibilité des détails de la surface à des grossissements élevés.
Toutefois, pour les applications nécessitant un faible grossissement ou des propriétés fonctionnelles spécifiques (par exemple, conductivité, résistance à la corrosion), la pulvérisation d'or est efficace et couramment utilisée.
4. Variabilité des taux de dépôt
La référence mentionne également que les cibles en platine, lorsqu'elles sont utilisées, permettent généralement d'obtenir une vitesse de dépôt inférieure de moitié à celle des autres matériaux.
Cela implique que des réglages similaires pour la pulvérisation du platine peuvent produire un revêtement plus fin que celui de l'or.
En résumé, l'épaisseur de l'or pulvérisé dépend fortement des paramètres de pulvérisation et peut varier de quelques nanomètres à des dizaines de nanomètres, en fonction de l'application spécifique et des conditions fixées pendant le processus de pulvérisation.
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