Quelle Est La Différence Entre Un Magnétron Équilibré Et Un Magnétron Non Équilibré (4 Différences Essentielles) ?

Il est essentiel de comprendre la différence entre les magnétrons équilibrés et déséquilibrés pour optimiser le processus de pulvérisation et obtenir les propriétés de film souhaitées.

4 différences essentielles entre les magnétrons équilibrés et déséquilibrés

Quelle est la différence entre un magnétron équilibré et un magnétron non équilibré (4 différences essentielles) ?

1. Configuration du champ magnétique

Magnétron équilibré : Le champ magnétique est réparti symétriquement autour de la cible.

Magnétron déséquilibré : Le champ magnétique est plus intense d'un côté, généralement le côté extérieur.

2. Impact sur le processus de pulvérisation

Magnétron équilibré : Crée une décharge de plasma stable qui confine les électrons et les ions près de la surface de la cible.

Magnétron déséquilibré : Les lignes de champ magnétique s'étendent plus loin dans la chambre à vide, ce qui augmente la densité du plasma près du substrat.

3. Érosion de la cible et vitesse de dépôt

Magnétron équilibré : Permet d'obtenir un modèle d'érosion uniforme sur la cible et une vitesse de dépôt constante.

Magnétron déséquilibré : Il en résulte un flux d'ions et une énergie plus élevés au niveau du substrat, ce qui améliore le bombardement ionique et les propriétés du film.

4. Adaptation à différentes applications

Magnétron équilibré : Convient pour le dépôt de films uniformes.

Magnétron non équilibré : Idéal pour les géométries complexes et les systèmes de plus grande taille, permettant de maintenir des taux de dépôt élevés et une qualité de film à des distances plus importantes entre la cible et le substrat.

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