La pulvérisation sous champ magnétique d'un magnétron à courant continu implique l'utilisation d'un champ magnétique pour améliorer le processus de pulvérisation dans une décharge à courant continu. Cette méthode augmente l'efficacité du processus de pulvérisation en piégeant les électrons près de la surface de la cible, augmentant ainsi le taux d'ionisation et le taux de pulvérisation.
Résumé de la réponse :
Le processus de pulvérisation magnétron à courant continu utilise une combinaison de champs électriques et magnétiques pour améliorer l'efficacité de la pulvérisation. Le champ magnétique est disposé parallèlement à la surface de la cible, ce qui piège les électrons et leur fait suivre une trajectoire en spirale, augmentant leur interaction avec les atomes de gaz et renforçant l'ionisation. Il en résulte un taux plus élevé de bombardement ionique sur la cible, ce qui permet d'augmenter les taux de pulvérisation sans qu'il soit nécessaire d'augmenter la pression de fonctionnement.
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Explication détaillée :Configuration du champ magnétique :
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Dans la pulvérisation magnétron à courant continu, un champ magnétique supplémentaire est appliqué derrière la plaque cathodique. Ce champ est conçu pour être parallèle à la surface de la cible. Les lignes du champ magnétique sont disposées de manière à créer un chemin fermé qui piège les électrons près de la cible, au lieu de les laisser s'échapper dans l'espace environnant.
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Effet sur les électrons :
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La superposition du champ électrique (perpendiculaire à la surface de la cible) et du champ magnétique fait que les particules chargées, en particulier les électrons, se déplacent sur des orbites cycloïdes plutôt que sur des lignes droites. Ce mouvement en spirale augmente considérablement la longueur du trajet des électrons sur la surface de la cible, ce qui entraîne davantage de collisions avec les atomes de gaz et donc des taux d'ionisation plus élevés.Augmentation du taux d'ionisation et de pulvérisation :
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L'augmentation de l'ionisation due aux électrons piégés entraîne une plus grande densité d'ions à proximité de la cible. Ces ions sont accélérés par le champ électrique vers la cible, où ils provoquent la pulvérisation. Le champ magnétique n'affecte pas de manière significative le mouvement des ions en raison de leur masse plus importante, de sorte qu'ils continuent à se déplacer en ligne droite vers la cible, ce qui conduit à une pulvérisation efficace.
Avantages opérationnels :
