La pulvérisation d'or est une technique utilisée pour déposer une fine couche d'or sur diverses surfaces telles que les circuits imprimés, les bijoux en métal ou les implants médicaux. Ce procédé fait partie du dépôt physique en phase vapeur (PVD) et implique l'éjection d'atomes d'or à partir d'un matériau cible, généralement un disque d'or massif ou un alliage d'or, par le bombardement d'ions à haute énergie dans une chambre à vide.
Processus de pulvérisation d'or :
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Installation de la chambre à vide : Le processus commence dans une chambre à vide où sont placés le matériau cible (or ou alliage d'or) et le substrat (la surface à revêtir). L'environnement sous vide est essentiel pour éviter la contamination et permettre aux atomes d'or de se déplacer directement vers le substrat sans interférence.
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Bombardement avec des ions à haute énergie : Des ions à haute énergie sont dirigés vers la cible d'or. Ce bombardement ionique provoque l'éjection des atomes d'or de la cible dans un processus connu sous le nom de pulvérisation cathodique. Les ions proviennent généralement d'un gaz comme l'argon, qui est ionisé dans la chambre pour fournir l'énergie nécessaire.
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Dépôt d'atomes d'or : Les atomes d'or éjectés traversent le vide et se déposent sur le substrat, formant une couche d'or fine et uniforme. Ce processus de dépôt est soigneusement contrôlé pour garantir l'épaisseur et l'uniformité souhaitées de la couche d'or.
Types de pulvérisation d'or :
- Pulvérisation DC : Il s'agit de l'une des méthodes les plus simples et les moins coûteuses, dans laquelle une source de courant continu est utilisée pour exciter le matériau cible. Elle est couramment utilisée en raison de sa simplicité et de sa rentabilité.
- Dépôt par évaporation thermique : Dans cette méthode, l'or est chauffé et évaporé à l'aide d'un élément chauffant résistif électrique dans un environnement à basse pression. L'or évaporé se condense ensuite sur le substrat.
- Dépôt en phase vapeur par faisceau d'électrons : Cette technique utilise un faisceau d'électrons pour chauffer l'or dans un environnement sous vide poussé. Les ions à haute énergie du faisceau d'électrons provoquent l'évaporation de l'or, qui se condense ensuite sur le substrat.
Applications et avantages de la pulvérisation d'or :
- Durabilité et résistance à la corrosion : Les films d'or pulvérisés sont exceptionnellement durs, durables et résistants à la corrosion et au ternissement. Ils sont donc idéaux pour les applications de l'industrie horlogère et joaillière où la durabilité et l'apparence sont essentielles.
- Contrôle du grain fin : Le procédé permet un contrôle précis du dépôt d'or, ce qui permet de créer des motifs et des teintes personnalisés, comme l'or rose, en contrôlant le mélange d'or et de cuivre et l'oxydation des atomes de métal libres pendant la pulvérisation.
Équipement et conditions :
Tous les types de pulvérisation d'or nécessitent un équipement de pulvérisation spécialisé et des conditions contrôlées pour garantir la qualité et l'uniformité de la couche d'or. Les fabricants produisent des équipements spécifiques à cette fin, et le processus peut être réalisé par des entreprises privées sur demande.
Cette explication détaillée couvre les aspects fondamentaux de la pulvérisation d'or, en mettant l'accent sur son processus, ses types, ses applications, ainsi que sur l'équipement et les conditions nécessaires à une mise en œuvre réussie.
