Les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) fonctionnent généralement à haute température.
Cette plage de température se situe généralement entre 600 et 1100°C.
Pour le dépôt en phase vapeur thermique, les surfaces doivent être maintenues à des températures comprises entre 800 et 1000°C.
Ces températures élevées sont essentielles pour favoriser les réactions chimiques nécessaires et le dépôt du matériau souhaité sur le substrat.
Il est important de tenir compte du fait que ces températures élevées peuvent affecter de manière significative le matériau du substrat.
Par exemple, les aciers peuvent être chauffés dans la région de la phase austénitique, ce qui nécessite un traitement thermique supplémentaire pour optimiser les propriétés du substrat.
6 points clés sur les hautes températures pour le dépôt en phase vapeur (CVD)
1. Plage de température générale
Les procédés CVD nécessitent généralement des températures comprises entre 600 et 1100°C.
2. Température du dépôt en phase vapeur thermique
Le dépôt en phase vapeur par procédé thermique nécessite des températures comprises entre 800 et 1000°C.
3. Importance des températures élevées
Les températures élevées sont essentielles pour faciliter les réactions chimiques et le dépôt de matériaux.
4. Effets thermiques sur le substrat
Les températures élevées peuvent avoir un impact significatif sur le matériau du substrat, comme les aciers entrant dans la phase d'austénite.
5. Variantes de la CVD
Le dépôt en phase vapeur assisté par plasma (PACVD) utilise une décharge électrique dans un gaz à basse pression pour accélérer les réactions et abaisser les températures de plusieurs centaines de degrés Celsius.
6. Températures spécifiques à l'application
Les exigences en matière de température pour le dépôt en phase vapeur dépendent de l'application spécifique et de la nature du matériau déposé.
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