Les méthodes de fabrication de couches minces comprennent le dépôt chimique et le dépôt physique.
Les méthodes de dépôt chimique impliquent la réaction d'un fluide précurseur sur le substrat, ce qui entraîne la formation d'une couche mince sur le solide. Parmi les méthodes de dépôt chimique les plus répandues, on peut citer la galvanoplastie, le sol-gel, le revêtement par immersion, le revêtement par centrifugation, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et le dépôt par couche atomique (ALD). Ces méthodes présentent des avantages tels que la simplicité de fabrication, l'excellente uniformité du film, la capacité de couvrir des surfaces de toutes tailles et sur de vastes étendues, et une faible température de traitement. Cependant, elles peuvent nécessiter des équipements sophistiqués et des salles blanches.
Les méthodes de dépôt physique comprennent le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et diverses techniques qui s'y rattachent. Les méthodes PVD impliquent le dépôt d'atomes ou de molécules sur un substrat par des moyens physiques. La pulvérisation est une technique de dépôt en phase vapeur couramment utilisée, dans laquelle des ions argon, créés par une décharge lumineuse sous vide, pulvérisent des atomes/molécules cibles, qui adhèrent au substrat et forment un film mince. Parmi les autres techniques de dépôt en phase vapeur, on peut citer l'évaporation thermique, l'enduction de carbone, le faisceau d'électrons et le dépôt par laser pulsé (PLD). Les méthodes de dépôt en phase vapeur sont connues pour leur précision et leur uniformité.
En outre, il existe des méthodes rentables de revêtement de couches minces, telles que l'enduction par immersion, l'enduction par centrifugation, l'enduction par pulvérisation, l'enduction par lame et l'enduction par rouleau. Ces méthodes présentent leurs propres avantages et inconvénients en fonction de l'application envisagée. Elles peuvent ne pas convenir à une production à grande échelle en raison de certaines limitations. Toutefois, elles permettent d'obtenir des films minces présentant une bonne homogénéité et une faible rugosité de surface.
Globalement, le choix de la méthode de fabrication des couches minces dépend de facteurs tels que le type et la taille du substrat, les exigences en matière d'épaisseur et de rugosité de surface, les considérations économiques et la disponibilité de l'équipement et des installations.
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