Le chauffage résistif et le chauffage par faisceau d'électrons sont deux méthodes courantes pour chauffer le matériau source lors de l'évaporation.
1. Chauffage résistif : Cette méthode consiste à utiliser un élément chauffant ou un filament pour chauffer le matériau source. Le filament, composé de matériaux tels que le tungstène, le molybdène, le quartz ou le graphite, est chauffé jusqu'à son point de fusion en faisant passer un courant important à travers un fil ou une feuille résistive qui contient le matériau métallique. Au fur et à mesure que le filament se réchauffe, le matériau source se réchauffe également et finit par s'évaporer ou se sublimer en vapeur.
2. Chauffage par faisceau d'électrons : Dans cette méthode, un faisceau d'électrons est utilisé pour chauffer le matériau source. Le faisceau d'électrons, généré par un canon à électrons, est dirigé vers le matériau source, ce qui le chauffe et le fait s'évaporer ou se sublimer. L'évaporation par faisceau d'électrons permet un contrôle précis du processus de chauffage et autorise des taux de dépôt élevés.
Ces deux mécanismes de chauffage sont couramment utilisés dans les processus d'évaporation pour chauffer le matériau source à des températures élevées, ce qui provoque sa vaporisation et sa condensation sur le substrat. Chaque méthode a ses avantages et est sélectionnée en fonction de facteurs tels que le matériau de revêtement, la vitesse de dépôt, la qualité du revêtement et le contrôle de l'épaisseur du film.
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