Lorsqu'il s'agit d'évaporation, le chauffage du matériau source est une étape cruciale.
Il existe deux méthodes principales pour y parvenir : le chauffage résistif et le chauffage par faisceau d'électrons.
Quelles sont les deux méthodes les plus courantes pour chauffer le matériau source lors de l'évaporation ?
1. Chauffage résistif
Le chauffage résistif consiste à utiliser un élément chauffant ou un filament pour chauffer le matériau source.
Le filament est généralement fabriqué à partir de matériaux tels que le tungstène, le molybdène, le quartz ou le graphite.
Un courant important passe à travers un fil ou une feuille résistive qui contient le matériau métallique.
Lorsque le filament chauffe, il atteint son point de fusion.
Cette chaleur est transférée au matériau source, ce qui provoque son évaporation ou sa sublimation en vapeur.
2. Chauffage par faisceau d'électrons
Dans le cas du chauffage par faisceau d'électrons, un faisceau d'électrons est utilisé pour chauffer le matériau source.
Le faisceau d'électrons est généré par un canon à électrons.
Ce faisceau est dirigé vers le matériau source, ce qui le chauffe et le fait s'évaporer ou se sublimer.
L'évaporation par faisceau d'électrons permet un contrôle précis du processus de chauffage.
Elle permet également des taux de dépôt élevés.
Le chauffage résistif et le chauffage par faisceau d'électrons sont couramment utilisés dans les processus d'évaporation.
Ces méthodes chauffent le matériau source à des températures élevées, ce qui provoque sa vaporisation et sa condensation sur le substrat.
Chaque méthode présente ses propres avantages et est choisie en fonction de facteurs tels que le matériau de revêtement, la vitesse de dépôt, la qualité du revêtement et le contrôle de l'épaisseur du film.
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