Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une méthode sophistiquée utilisée pour synthétiser des pierres précieuses, en particulier des diamants, en déposant une fine couche de matériau sur un substrat par le biais de réactions chimiques dans un environnement contrôlé. Cette technique est non seulement efficace, mais elle produit également des pierres précieuses qui sont physiquement et chimiquement identiques à leurs homologues naturels, ce qui en fait un choix populaire en raison de leur haute qualité et de leur prix abordable.
Aperçu du processus :
Le procédé CVD consiste à placer une fine graine de diamant dans une chambre scellée et à la chauffer à des températures pouvant atteindre 800°C. La chambre est ensuite remplie d'un mélange d'eau et d'oxygène. La chambre est ensuite remplie d'un mélange de gaz riches en carbone, généralement de l'hydrogène et du méthane. Par ionisation, les liaisons moléculaires de ces gaz sont rompues, ce qui permet au carbone pur de s'attacher à la graine de diamant. Au fur et à mesure que le carbone s'accumule, il forme des liaisons atomiques avec la graine, s'accumulant progressivement pour créer un diamant plus grand. Cette croissance se produit couche par couche, imitant la formation naturelle des diamants, mais dans un délai beaucoup plus court, généralement de deux à quatre semaines.Détails techniques :
La méthode CVD implique plusieurs itinéraires techniques, le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) étant le plus répandu en raison de sa maturité et de son utilisation généralisée. Dans le procédé MPCVD, l'énergie des micro-ondes est utilisée pour générer une décharge lumineuse dans la chambre de réaction, qui ionise les molécules de gaz et crée un plasma. Ce plasma facilite la croissance de petites graines de diamant en diamants monocristallins plus grands en déposant des atomes de carbone couche par couche au niveau atomique.
Comparaison avec le procédé HPHT :
