Four tubulaire
Four de laboratoire vertical à tube de quartz Four tubulaire
Numéro d'article : KT-VTF
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température maximale
- 1800℃
- Diamètre du tube du four
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Longueur de la zone de chauffage
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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Introduction
Les fours tubulaires verticaux sont des équipements de laboratoire utilisés pour le traitement à haute température des matériaux dans des conditions atmosphériques contrôlées. Ils se composent d'un tube de quartz orienté verticalement enfermé dans une chambre de chauffage, ce qui permet un contrôle précis de la température et une distribution uniforme de la chaleur. Ces fours sont couramment utilisés pour diverses applications, notamment le traitement thermique, la trempe, le recuit, la croissance de cristaux et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Avec des fonctionnalités avancées telles que des contrôleurs de température programmables, des capacités d'étanchéité sous vide et des accessoires spécialisés pour la manipulation des échantillons, les fours tubulaires verticaux offrent polyvalence et précision dans le traitement des matériaux. Leur capacité à créer des atmosphères contrôlées et à atteindre des températures élevées en fait des outils essentiels dans la recherche et le développement, la science des matériaux et les applications industrielles.
Applications
Les fours tubulaires verticaux sont des dispositifs de chauffage polyvalents avec une large gamme d'applications dans diverses industries et laboratoires. Ils sont particulièrement utiles pour les processus qui nécessitent un contrôle précis de la température et la capacité de fonctionner sous vide ou sous atmosphères gazeuses contrôlées.
- Tests de trempe par gaz : les fours tubulaires verticaux sont couramment utilisés pour les tests de trempe par gaz, où les échantillons sont rapidement refroidis à partir de températures élevées dans un milieu de trempe tel que de l'eau glacée ou de l'huile. Cela permet aux chercheurs d'étudier les transitions de phase des matériaux et les effets du refroidissement rapide sur les propriétés des matériaux.
- Traitement thermique : les fours tubulaires verticaux sont utilisés pour une variété de processus de traitement thermique, y compris le recuit, le revenu et la relaxation des contraintes. Ces processus peuvent améliorer les propriétés mécaniques des matériaux, telles que leur résistance, leur dureté et leur ductilité.
- Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) : les fours tubulaires verticaux sont utilisés pour les processus CVD, où un film mince est déposé sur un substrat par des réactions chimiques dans un environnement gazeux. Cette technique est couramment utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour créer des appareils électroniques.
- Croissance de cristaux : les fours tubulaires verticaux sont utilisés pour la croissance de cristaux, où les cristaux sont cultivés à partir d'une phase fondue ou vapeur. Cette technique est utilisée pour produire des cristaux de haute qualité destinés à être utilisés dans l'optique, l'électronique et d'autres applications.
- Tests de matériaux : les fours tubulaires verticaux sont utilisés pour les tests de matériaux, tels que les mesures de conductivité thermique, les déterminations du point de fusion et les transitions de phase. Ces tests fournissent des informations précieuses sur les propriétés des matériaux.
- Autres applications : les fours tubulaires verticaux sont également utilisés dans diverses autres applications, notamment :
- Frittage
- Brasage
- Calcination
- Céramiques
- Travail du verre
- Recherche en laboratoire
- Traitement des poudres
Détails et pièces
2. Panneau d'affichage numérique électronique : contrôle précis de la température, processus de traitement thermique multi-segments prédéfini.
3. Foyer en fibre polycristalline d'alumine : résistance aux hautes températures, utilisation prolongée sans déformation, sans fissures.
Principe
Les fours tubulaires verticaux fonctionnent selon le principe du transfert de chaleur par rayonnement. L'élément chauffant, généralement en disiliciure de molybdène (MoSi2) ou en carbure de silicium (SiC), est situé autour du tube vertical, émettant un rayonnement infrarouge qui est absorbé par l'échantillon à l'intérieur. Ce rayonnement chauffe uniformément l'échantillon, offrant un contrôle précis et efficace de la température. La conception du four permet des vitesses de chauffage et de refroidissement rapides, ce qui le rend adapté à diverses applications, y compris la synthèse de matériaux, le traitement thermique et les mesures de température.
Avantages
- Chambre de four positionnée verticalement ou inclinée : cela permet de réaliser diverses expériences, notamment le chauffage en lit fluidisé, la croissance de cristaux par traction, la trempe, etc.
- Variété de fonctions mécaniques : ces fonctions comprennent la suspension, la traction, la rotation et le relâchement de l'échantillon, offrant une polyvalence dans les configurations expérimentales.
- Large plage de température de travail : température maximale jusqu'à 1800℃ permettant une gamme variée d'applications.
- Personnalisation spécialisée des équipements de froc : adapte le four aux exigences expérimentales spécifiques.
- Conception à double coque de four : le flux d'air forcé entre la coque intérieure et extérieure maintient une faible température de surface du four pour la sécurité.
- Contrôle de température programmable PID : excellente précision de contrôle et performances de chauffage stables, avec des options de contrôle à distance et centralisé.
- Contrôleur à écran tactile VTF Pro : réglage de programme convivial, analyse de données et gestion des recettes.
- Fonctions de sécurité : protection contre les surintensités, alarme de surchauffe et détection de thermocouple pour une sécurité accrue.
- Fonction de redémarrage en cas de panne de courant : reprend le programme de chauffage après une panne de courant, assurant la continuité de l'expérience.
Avantage de sécurité
- Le four tubulaire Kindle Tech possède une fonction de protection contre les surintensités et d'alarme de surchauffe, le four coupera automatiquement l'alimentation une fois qu'une surintensité est détectée.
- Le four intègre une fonction de détection de thermocouple, le four arrêtera le chauffage et une alarme retentira une fois qu'un thermocouple cassé ou défaillant sera détecté.
- VTF Pro prend en charge la fonction de redémarrage en cas de panne de courant, le four reprendra le programme de chauffage du four lorsque le courant sera rétabli après une panne.
Spécifications techniques
| Modèle de four | KT-VTF | KT-VTF PRO |
|---|---|---|
| Contrôleur de température | Contrôleur PID numérique | Contrôleur PID à écran tactile |
| Préréglage de programme multiple | non | oui |
| Redémarrage en cas de panne de courant | non | oui |
| Température max. | 1800℃ | |
| Matériau du tube de four | Quartz de haute qualité / Alumine Al2O3 | |
| Diamètre du tube de four | 50 / 60 / 80 / 100 mm | |
| Longueur de la zone de chauffage | 300 / 450 / 600 / 800 mm | |
| Solution d'étanchéité sous vide | Bride SS 304 avec bague d'étanchéité en cuivre massif | |
| Pression de vide nominale | 0.001Pa/10E5 torr | |
| Matériau de la chambre | Fibre d'alumine Al2O3 du Japon | |
| Élément chauffant | Bobine de fil Cr2Al2Mo2 / SiC / MoSi2 | |
| Thermocouple | Type K / S / B | |
| Précision du contrôle de température | ±1℃ | |
| Alimentation électrique | AC110-220V, 50/60HZ | |
| La taille d'autres tubes de four et la longueur de la zone de chauffage peuvent être personnalisées | ||
Colis standard
| N° | Description | Quantité |
|---|---|---|
| 1 | Four | 1 |
| 2 | Tube en alumine | 1 |
| 3 | Bride de vide | 2 |
| 4 | Bloc thermique de tube | 2 |
| 5 | Crochet de bloc thermique de tube | 1 |
| 6 | Gant résistant à la chaleur | 1 |
| 7 | Manuel d'utilisation | 1 |
Configuration optionnelle
- Détection et surveillance des gaz dans le tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour le contrôle à distance par PC et l'exportation de données
- Contrôle du débit d'alimentation des gaz d'insertion, comme un débitmètre massique et un débitmètre à flotteur
- Contrôleur de température à écran tactile avec des fonctions polyvalentes et conviviales
- Configurations de station de pompage à vide poussé, comme une pompe à vide à palettes, une pompe moléculaire, une pompe à diffusion
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
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FAQ
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire ?
Le four tubulaire de laboratoire est un four tubulaire à haute température de chauffage externe classique, également appelé four de chauffage à paroi chaude.
Selon la température de travail différente, le matériau du tube de four peut généralement être des tubes de quartz transparents, des tubes en céramique d'alumine de haute pureté et des tubes en alliage métallique à haute résistance.
Pour répondre à différents objectifs de recherche thermique, le four tubulaire peut être conçu avec plusieurs zones de chauffage, de manière à avoir un contrôle flexible du gradient de température dans la chambre de travail du tube ; le tube de four peut fonctionner avec un environnement de travail à atmosphère contrôlée ou un environnement de travail sous vide poussé.
Qu'est-ce Qu'un Four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Comment Fonctionne Un Four Tubulaire ?
Les éléments chauffants du four tubulaire sont placés autour de la cavité cylindrique, le four ne peut chauffer les échantillons dans la cavité cylindrique que par rayonnement thermique indirect, car le tube du four peut empêcher le matériau de l'échantillon d'entrer en contact avec les éléments chauffants du four et les matériaux d'isolation, de sorte que le four tubulaire crée un propre isolé chauffer la chambre et réduire les risques de contamination de l'échantillon par le four.
Comment Fonctionne Le Four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Rotatif ?
Quelle Est L'application Pour Le Four Tubulaire?
Le four tubulaire est principalement utilisé dans la métallurgie, le verre, le traitement thermique, les matériaux d'anode et de cathode au lithium, les nouvelles énergies, les abrasifs et d'autres industries, et est un équipement professionnel pour mesurer les matériaux dans certaines conditions de température.
Le four tubulaire présente une structure simple, une opération facile, un contrôle facile et une production continue.
Le four tubulaire est également largement appliqué dans les systèmes CVD (dépôt chimique en phase vapeur) et CVD amélioré par plasma.
Quel Gaz Est Utilisé Dans Le Procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
Comment Fonctionne Un Four Tubulaire Rotatif ?
Combien De Différents Types De Four Tubulaire?
Le four tubulaire peut fonctionner avec différentes fonctions mécaniques en douceur, il existe donc de nombreux types de variantes de four tubulaire à différentes fins d'expérimentation, les fours à four typiques sont les suivants :
- Four tubulaire horizontal
- Four tubulaire vertical
- Four tubulaire fendu
- Four tubulaire rotatif
- Four tubulaire basculant
- Four tubulaire coulissant
- Four tubulaire à chauffage et refroidissement rapides
- Four tubulaire à alimentation et décharge continue
Quel Est L'avantage Du Système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Quels Sont Les Avantages D'un Four Tubulaire Rotatif ?
Quelle Est La Fonction Du Four à Tube Rotatif?
Que Signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
Quels Sont Les Avantages Du Four Tubulaire Rotatif ?
Quelle Est La Différence Entre CVD Et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
4.8
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Produits
Four de laboratoire vertical à tube de quartz Four tubulaire
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