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Applications du diamant monocristallin MPCVD dans les domaines des semi-conducteurs et de l'affichage optique
il y a 11 moisCet article traite des applications du diamant monocristallin MPCVD dans les domaines des semi-conducteurs et de l'affichage optique, en soulignant ses propriétés supérieures et son impact potentiel sur diverses industries.
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Progrès dans le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes pour la préparation de diamants monocristallins de grande taille
il y a 11 moisCet article traite des progrès et des défis liés à la préparation de diamants monocristallins de grande taille à l'aide de techniques de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD).
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Application de l'enduction sous vide sur le verre architectural
il y a 11 moisUn examen approfondi des méthodes et des avantages du revêtement sous vide sur le verre architectural, en mettant l'accent sur l'efficacité énergétique, l'esthétique et la durabilité.
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Facteurs affectant l'adhésion des films pulvérisés par magnétron
il y a 11 moisUne analyse approfondie des facteurs clés influençant l'adhésion des films préparés par la technologie de pulvérisation cathodique magnétron.
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Revêtement de type diamant (DLC) et ses applications
il y a 11 moisExplore les propriétés et les diverses applications des revêtements en carbone diamanté (DLC).
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Comprendre et prévenir l'empoisonnement des cibles de pulvérisation cathodique magnétron
il y a 1 anExamine le phénomène d'empoisonnement des cibles dans la pulvérisation cathodique magnétron, ses causes, ses effets et les mesures préventives.
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Impact de diverses alimentations électriques sur la morphologie des films pulvérisés
il y a 1 anCet article traite de la manière dont les différentes alimentations électriques affectent la morphologie des couches de film pulvérisé, en se concentrant sur les alimentations DC, PDC et RF.
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Analyse de l'ablation sévère dans la région centrale des cibles céramiques lors de la pulvérisation cathodique par magnétron
il y a 1 anCet article examine les causes et les solutions de l'ablation sévère dans la région centrale des cibles céramiques lors de la pulvérisation magnétron.
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Mesure de la résistance au décollement des couches de film pulvérisé
il y a 1 anUn guide approfondi sur la définition, les méthodes de mesure, les facteurs d'influence et l'équipement utilisé pour évaluer la résistance au pelage des couches de film pulvérisé.
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Contrôle de la tolérance de l'épaisseur du film dans le revêtement par pulvérisation cathodique magnétron
il y a 1 anCe document traite des méthodes permettant de garantir la tolérance de l'épaisseur du film lors du revêtement par pulvérisation cathodique magnétron, afin d'obtenir des performances optimales du matériau.
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Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons : Avantages, inconvénients et applications
il y a 1 anUn examen approfondi des avantages et des inconvénients du revêtement par évaporation par faisceau d'électrons et de ses diverses applications dans l'industrie.
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Défis liés au dépôt d'un film TiN à l'aide d'un courant alternatif et solutions
il y a 1 anExamine les difficultés liées à la croissance d'un film de TiN sous courant alternatif et propose des solutions telles que la pulvérisation cathodique et le courant continu pulsé.
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Vue d'ensemble des procédés de revêtement PVD
il y a 1 anUn examen approfondi des principes, des types, des applications gazeuses et des utilisations pratiques des procédés de revêtement PVD.
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Conception de systèmes à couches minces : Principes, considérations et applications pratiques
il y a 1 anExploration approfondie des principes de conception des systèmes à couches minces, des considérations technologiques et des applications pratiques dans divers domaines.
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Questions relatives à la pulvérisation magnétron : Pourquoi une incandescence se produit-elle mais aucun film n'est déposé ?
il y a 1 anAnalyse des facteurs causant l'absence de dépôt de film en dépit de l'incandescence lors de la pulvérisation magnétron.
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Facteurs affectant l'uniformité de la pulvérisation magnétron
il y a 1 anExamine les facteurs clés qui influencent l'uniformité du dépôt de couches minces par pulvérisation magnétron, notamment les paramètres de l'équipement, la puissance de pulvérisation, la pression du gaz, la configuration du champ magnétique, les propriétés du substrat, etc.
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Sélection des matériaux de revêtement sous vide : Facteurs clés et considérations
il y a 1 anLignes directrices sur le choix des matériaux de revêtement sous vide en fonction de l'application, des propriétés des matériaux, des méthodes de dépôt, de l'économie, de la compatibilité avec les substrats et de la sécurité.
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Défis liés à l'obtention d'une décharge luminescente avec des cibles de rhénium dans le cadre de la pulvérisation magnétron
il y a 1 anExplore les raisons pour lesquelles les cibles de rhénium peinent à briller lors de la pulvérisation cathodique magnétron et propose des suggestions d'optimisation.
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Paramètres affectant l'effet de pulvérisation dans le processus de pulvérisation magnétron
il y a 1 anParamètres clés influençant l'effet de pulvérisation dans la pulvérisation magnétron, notamment la pression d'air, la puissance, la distance de la cible, le type de substrat, etc.
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Contrôle de la couleur et applications des films d'oxyde de silicium évaporés
il y a 1 anExploration des variations de couleur, des méthodes de contrôle et des applications pratiques des couches minces d'oxyde de silicium.
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Précautions pour la préparation des couches de film de titanate de zirconate de plomb (PZT) par pulvérisation magnétron
il y a 1 anDirectives et précautions pour la préparation des couches de film PZT par pulvérisation magnétron.
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Considérations relatives à l'application d'un revêtement par évaporation sur des substrats souples
il y a 1 anFacteurs clés de la réussite de l'enduction par évaporation sur des matériaux souples, garantissant la qualité et la performance.
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Types d'alimentations de polarisation dans la pulvérisation cathodique et leurs objectifs
il y a 1 anVue d'ensemble des types d'alimentation de polarisation dans la pulvérisation magnétron et de leur rôle dans l'amélioration de l'adhérence et de la densité du film.
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Comprendre les différences et les utilisations de la pulvérisation DC, MF et RF dans la préparation des couches minces
il y a 1 anCet article explique les distinctions et les applications des techniques de pulvérisation DC, MF et RF dans la préparation des couches minces.
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Étincelles du matériau cible pendant le revêtement par pulvérisation cathodique magnétron : Causes et solutions
il y a 1 anExplique pourquoi le matériau cible produit des étincelles lors de la pulvérisation cathodique magnétron et propose des solutions pour les éviter.
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Comprendre la technologie de dépôt par pulvérisation cathodique
il y a 1 anUn aperçu approfondi de la technologie de dépôt par pulvérisation cathodique, de ses mécanismes, de ses types et de ses applications.
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Technologie de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de couches minces
il y a 1 anVue d'ensemble de la technologie CVD, de ses principes, de ses types, de ses applications, des caractéristiques du processus et de ses avantages.
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Procédés de dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs
il y a 1 anVue d'ensemble des techniques de dépôt de couches minces, en se concentrant sur les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) dans la fabrication des semi-conducteurs.
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Vue d'ensemble des technologies de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
il y a 1 anCet article détaille les différentes technologies CVD utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs et du dépôt de couches minces.
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Le diamant de culture MPCVD révolutionne l'industrie
il y a 1 anExplore l'impact des diamants cultivés MPCVD sur diverses industries et les stratégies de réduction des coûts et d'amélioration de l'efficacité.
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