En chimie, le dépôt désigne le processus de création de couches minces ou épaisses d'une substance, atome par atome ou molécule par molécule, sur une surface solide. Ce processus aboutit à un revêtement qui modifie les propriétés de la surface du substrat, en fonction de l'application envisagée.
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une méthode spécifique de dépôt qui se caractérise par la formation d'un film solide sur une surface chauffée grâce à une réaction chimique en phase vapeur. Cette méthode comporte plusieurs étapes clés :
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Évaporation d'un composé volatil: La substance à déposer est d'abord évaporée de son état de composé. Pour ce faire, on chauffe généralement le composé jusqu'à son point de vaporisation, ce qui le transforme en gaz.
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Décomposition thermique ou réaction chimique: La vapeur subit une décomposition thermique en atomes et molécules, ou réagit avec d'autres vapeurs, gaz ou liquides à la surface du substrat. Cette étape est cruciale pour la formation de la composition chimique souhaitée du film.
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Dépôt de produits de réaction non volatils: Les produits des réactions chimiques, qui sont non volatiles, se déposent sur le substrat. Il en résulte la formation d'un film mince ou d'un revêtement sur la surface.
Le procédé CVD requiert généralement des conditions spécifiques, notamment des pressions allant de quelques torrents à une pression supérieure à la pression atmosphérique et des températures relativement élevées, souvent de l'ordre de 1000°C. Ces conditions facilitent la décomposition et la réaction efficaces des composés vaporisés.
Le dépôt en phase vapeur est largement utilisé pour produire des couches minces et des revêtements de haute qualité. Elle implique l'utilisation de réactifs gazeux, qui sont transportés dans une chambre de réaction où ils se décomposent sur la surface d'un substrat chauffé. Cette décomposition ne forme pas seulement le revêtement souhaité, mais produit également des sous-produits chimiques, qui sont éliminés de la chambre de réaction en même temps que les précurseurs volatils qui n'ont pas réagi. Les matériaux couramment déposés par dépôt en phase vapeur comprennent les siliciures, les oxydes métalliques, les sulfures et les arséniures.
En résumé, le dépôt en chimie, en particulier par des méthodes telles que la CVD, est un processus essentiel pour créer des couches minces et des revêtements qui peuvent améliorer de manière significative les propriétés et les fonctionnalités de divers matériaux et surfaces.
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