L'impact de la température du substrat sur les propriétés du film peut être résumé comme suit :
1. Phase cristalline : L'augmentation de la température du substrat peut entraîner des changements dans la phase cristalline de la couche mince. Par exemple, une augmentation de la température peut entraîner une transformation d'une phase amorphe en une phase cristalline.
2. Taille des cristallites : Une température de substrat plus élevée peut entraîner une diminution de la taille des cristallites dans le film mince. Cela est dû à l'amélioration de la diffusion et de la croissance du réseau cristallin à des températures plus élevées.
3. Proportion de stœchiométrie : La température du substrat affecte également la proportion de stœchiométrie de la couche mince. L'augmentation de la température peut conduire à une composition plus équilibrée du film, améliorant ainsi sa qualité globale.
4. Morphologie de la surface : La morphologie de la surface du film mince peut être influencée par la température du substrat. Des températures plus élevées peuvent favoriser les réactions de surface et aboutir à une surface de film plus lisse et plus uniforme.
5. Valeur de la bande interdite : L'augmentation de la température du substrat peut également avoir un impact sur la valeur de la bande interdite du film mince. Cela est dû aux modifications de la phase cristalline, de la taille des cristallites et de la proportion de stœchiométrie, qui affectent les propriétés électroniques du film.
6. Densité des défauts : L'augmentation de la température du substrat peut aider à compenser les liaisons en suspension à la surface du film, ce qui entraîne une diminution de la densité des défauts. La qualité globale du film s'en trouve améliorée.
7. Adhésion, cristallinité et contrainte : La température du substrat est un paramètre important qui affecte l'adhérence, la cristallinité et la contrainte du film mince déposé. L'optimisation de la température permet d'obtenir la qualité et les propriétés souhaitées du film.
8. Vitesse de dépôt : La vitesse à laquelle le matériau pulvérisé est déposé sur le substrat, appelée vitesse de dépôt, peut être influencée par la température du substrat. L'optimisation de la vitesse de dépôt permet d'obtenir l'épaisseur et l'uniformité souhaitées du film.
En résumé, la température du substrat joue un rôle crucial dans la détermination de la structure cristalline, de la morphologie de la surface, de la stœchiométrie et des propriétés électroniques de la couche mince. En contrôlant la température du substrat, les chercheurs et les ingénieurs peuvent adapter les propriétés du film aux exigences spécifiques de diverses applications.
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