La métallisation PVD, ou dépôt physique en phase vapeur, est un procédé utilisé pour appliquer des films métalliques minces sur un substrat.
Ce processus comporte plusieurs étapes critiques, toutes réalisées sous vide pour garantir une application efficace et contrôlée du revêtement métallique.
4 étapes clés du processus de métallisation PVD
1. Évaporation
La première étape de la métallisation PVD est l'évaporation.
Au cours de cette phase, un matériau cible, généralement un métal, est exposé à une source d'énergie élevée, comme un faisceau d'électrons ou d'ions.
Cette énergie déloge les atomes de la surface de la cible et les vaporise.
Les atomes vaporisés sont alors prêts à être déposés sur la pièce.
2. Le transport
Après l'évaporation, les atomes vaporisés doivent être transportés de la cible au substrat, c'est-à-dire à la pièce à revêtir.
Ce mouvement s'effectue dans un environnement sous vide, ce qui minimise les collisions avec d'autres particules.
Cela garantit un chemin direct et efficace pour les atomes jusqu'au substrat.
3. Réaction
Si la cible est un métal, les revêtements PVD sont souvent constitués d'oxydes métalliques, de nitrures, de carbures et de matériaux similaires.
Pendant la phase de transport, les atomes de métal peuvent réagir avec certains gaz tels que l'oxygène, l'azote ou le méthane.
Cette réaction se produit en phase vapeur et est cruciale pour la formation de composés spécifiques sur le substrat.
4. Le dépôt
L'étape finale est le dépôt des atomes vaporisés et ayant potentiellement réagi sur le substrat.
Lorsque ces atomes atteignent le substrat, ils se condensent et forment un film mince.
Le processus de dépôt s'effectue atome par atome, ce qui renforce l'adhérence du film au substrat.
Cela permet d'utiliser une large gamme de matériaux, y compris les métaux, les céramiques, et même les plastiques et le verre.
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