Le dépôt en phase vapeur de couches minces est un processus utilisé pour déposer de fines couches de matériau sur un substrat.
Ce processus se déroule généralement dans des conditions contrôlées, dans un environnement sous vide.
Il est crucial pour la fabrication de micro/nano dispositifs.
Le processus implique l'émission de particules à partir d'une source, leur transport vers le substrat et leur condensation sur la surface du substrat.
5 méthodes clés expliquées
1. Dépôt physique en phase vapeur (PVD)
Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont les deux principales méthodes utilisées pour le dépôt en phase vapeur.
Le dépôt physique en phase vapeur comprend des techniques telles que la pulvérisation, l'évaporation et la sublimation.
Dans le cas du dépôt en phase vapeur, le matériau est physiquement vaporisé à partir d'une source, puis déposé sur le substrat.
2. Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
En revanche, le dépôt en phase vapeur (CVD) implique des réactions chimiques à partir de la phase vapeur.
Les précurseurs gazeux réagissent pour former un film mince solide sur le substrat.
Le dépôt en phase vapeur est particulièrement efficace pour produire des films et des revêtements solides de haute qualité.
3. Évaporation thermique
L'évaporation thermique est un type de PVD.
Elle utilise un chauffage résistif pour évaporer un matériau solide dans une chambre à vide poussé, créant ainsi une pression de vapeur élevée.
Le matériau évaporé recouvre alors la surface du substrat.
Cette technique est largement utilisée dans l'industrie pour créer des couches de liaison métalliques dans les cellules solaires, les transistors à couche mince, les tranches de semi-conducteurs et les OLED à base de carbone.
4. Applications du dépôt de couches minces
Les applications du dépôt de couches minces sont nombreuses.
Elles vont des films mécaniques super durs et résistants à la corrosion aux films fonctionnels tels que les films d'enregistrement magnétique, de stockage d'informations, photosensibles, thermosensibles, supraconducteurs et de conversion photoélectrique.
En outre, des revêtements décoratifs peuvent également être préparés à l'aide de cette technologie.
5. Choix entre PVD et CVD
Le choix entre PVD et CVD dépend des exigences spécifiques du film.
Ces exigences comprennent la composition, la pureté, la morphologie, l'épaisseur, la microstructure et d'autres propriétés fonctionnelles.
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