Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est un processus par lequel un substrat est exposé à des précurseurs volatils.
Ces précurseurs réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour produire le dépôt souhaité.
La température utilisée pour le dépôt chimique en phase vapeur peut varier en fonction de l'application spécifique.
Quelle est la température du dépôt chimique en phase vapeur ? (4 températures clés expliquées)
1. Températures typiques de la CVD
Lors d'un dépôt en phase vapeur, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs volatils à haute pression de vapeur et à basse température.
Ces températures sont comprises entre 373 et 673 K (100 et 400 °C).
Les précurseurs peuvent être des chlorures ou des composés organométalliques.
La basse température est choisie pour s'assurer que les précurseurs sont en phase gazeuse et peuvent facilement réagir à la surface du substrat pour former le dépôt souhaité.
2. Températures élevées dans la distillation du pétrole
Dans d'autres applications, telles que la distillation de l'huile ou l'évaporation de solvants dans un évaporateur rotatif, des températures plus élevées sont utilisées.
Par exemple, dans les alambics moléculaires à court trajet à film essuyé utilisés pour la distillation de l'huile, les températures peuvent atteindre 343 degrés Celsius (650 degrés Fahrenheit).La plage de température de distillation typique est de 130 à 180 degrés Celsius (266 à 356 degrés Fahrenheit).Dans ces systèmes, la matière première ou le solvant est réparti sur la paroi de la chambre d'évaporation et une fine pellicule se forme. Les composants les plus volatils s'évaporent et sont recueillis séparément, tandis que le composé souhaité est recueilli dans une unité centrale de condensation plus froide et à température contrôlée.
