Connaissance Comment le graphène est-il produit à grande échelle ? 4 méthodes clés expliquées
Avatar de l'auteur

Équipe technique · Kintek Solution

Mis à jour il y a 2 mois

Comment le graphène est-il produit à grande échelle ? 4 méthodes clés expliquées

Le graphène est produit à grande échelle principalement par dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

Ce processus implique le dépôt d'espèces de carbone sur la surface d'un catalyseur, qui forme ensuite des cristaux de graphène.

La qualité du graphène produit est évaluée à l'aide de la microscopie à imagerie Raman.

Comment le graphène est-il produit à grande échelle ? 4 méthodes clés expliquées

Comment le graphène est-il produit à grande échelle ? 4 méthodes clés expliquées

1. Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Dans le procédé CVD, un substrat (souvent du cuivre ou du nickel) est exposé à un gaz contenant du carbone, comme le méthane ou l'éthylène, à des températures élevées.

Les molécules de gaz se décomposent à la surface du catalyseur, libérant des atomes de carbone.

Ces atomes de carbone se diffusent à travers la surface et s'agrègent en grappes.

Lorsque ces amas atteignent une taille critique, ils se nucléent en cristaux de graphène.

Au fur et à mesure que le dépôt se poursuit, ces îlots de graphène grandissent et finissent par fusionner pour former une couche unique et continue de graphène.

La faible réactivité de la surface du graphène par rapport au catalyseur empêche généralement la croissance de couches supplémentaires.

2. Évaluation de la qualité par microscopie d'imagerie Raman

Après le processus de dépôt en phase vapeur, la qualité du graphène est évaluée à l'aide de la microscopie d'imagerie Raman.

Cette technique utilise la lumière laser pour exciter le graphène, et la lumière diffusée est analysée pour déterminer l'énergie vibratoire du réseau de graphène.

Les spectres Raman fournissent des informations sur le nombre de couches, la présence de défauts et la qualité du graphène.

Par exemple, le rapport d'intensité des bandes D et G (ID/IG) est souvent utilisé pour évaluer la densité des défauts dans le graphène.

3. Production à l'échelle industrielle

La production industrielle de graphène par dépôt chimique en phase vapeur a été optimisée par diverses techniques.

Par exemple, le procédé lot à lot (B2B) consiste à empiler ou à rouler des feuilles de cuivre pour augmenter le rendement de la production.

Une autre méthode est le processus de rouleau à rouleau (R2R), qui permet de produire en continu des films de graphène d'une longueur pratiquement illimitée, mais d'une largeur limitée.

Cette méthode est hautement automatisée et plus compatible avec les étapes de traitement ultérieures.

4. Les défis de la production de masse

Malgré les progrès des techniques de dépôt en phase vapeur, il reste des défis à relever pour parvenir à une production de masse de graphène de haute qualité, avec un minimum de défauts et des grains de grande taille, à un faible coût.

Le contrôle des paramètres du procédé CVD, tels que la température, la pression, les débits de gaz et le choix du catalyseur, est crucial pour la production d'un graphène de haute qualité.

Poursuivez votre exploration, consultez nos experts

Découvrez la pointe de la production de graphène avec KINTEK SOLUTION !

Nos techniques avancées de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) révolutionnent le domaine et garantissent une qualité et une efficacité inégalées.

Avec la microscopie d'imagerie Raman comme outil de précision, nous évaluons et affinons méticuleusement chaque couche de graphène.

Entrez dans l'avenir de la science des matériaux avec KINTEK SOLUTION - où la qualité, l'innovation et l'échelle se rencontrent pour créer le meilleur graphène au monde.

Contactez-nous dès aujourd'hui et rejoignez la révolution du graphène !

Produits associés

Grand four de graphitisation vertical

Grand four de graphitisation vertical

Un grand four de graphitisation vertical à haute température est un type de four industriel utilisé pour la graphitisation de matériaux carbonés, tels que la fibre de carbone et le noir de carbone. Il s'agit d'un four à haute température pouvant atteindre des températures allant jusqu'à 3100°C.

Revêtement diamant CVD

Revêtement diamant CVD

Revêtement diamant CVD : conductivité thermique, qualité cristalline et adhérence supérieures pour les outils de coupe, les applications de friction et acoustiques

Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons

Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons

Une technologie principalement utilisée dans le domaine de l'électronique de puissance. Il s'agit d'un film de graphite constitué d'un matériau source de carbone par dépôt de matériau à l'aide de la technologie à faisceau d'électrons.

Diamant dopé au bore CVD

Diamant dopé au bore CVD

Diamant dopé au bore CVD : un matériau polyvalent permettant une conductivité électrique sur mesure, une transparence optique et des propriétés thermiques exceptionnelles pour les applications dans les domaines de l'électronique, de l'optique, de la détection et des technologies quantiques.

Plaque Carbone Graphite - Isostatique

Plaque Carbone Graphite - Isostatique

Le graphite de carbone isostatique est pressé à partir de graphite de haute pureté. C'est un excellent matériau pour la fabrication de tuyères de fusée, de matériaux de décélération et de matériaux réfléchissants pour réacteurs en graphite.

Creuset d'évaporation en graphite

Creuset d'évaporation en graphite

Cuves pour applications à haute température, où les matériaux sont maintenus à des températures extrêmement élevées pour s'évaporer, permettant le dépôt de couches minces sur des substrats.

Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD

Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD

Améliorez votre processus de revêtement avec l'équipement de revêtement PECVD. Idéal pour les LED, les semi-conducteurs de puissance, les MEMS, etc. Dépose des films solides de haute qualité à basse température.

Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence

Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence

RF-PECVD est un acronyme pour "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Ce procédé permet de déposer un film de carbone de type diamant (DLC) sur des substrats de germanium et de silicium. Il est utilisé dans la gamme de longueurs d'onde infrarouge 3-12um.

Four de graphitisation continue

Four de graphitisation continue

Le four de graphitisation à haute température est un équipement professionnel pour le traitement par graphitisation des matériaux carbonés. Il s'agit d'un équipement clé pour la production de produits en graphite de haute qualité. Il a une température élevée, un rendement élevé et un chauffage uniforme. Il convient à divers traitements à haute température et traitements de graphitisation. Il est largement utilisé dans l’industrie métallurgique, électronique, aérospatiale, etc.

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Découvrez la machine MPCVD à résonateur cylindrique, la méthode de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à micro-ondes utilisée pour produire des pierres précieuses et des films en diamant dans les secteurs de la bijouterie et des semi-conducteurs. Découvrez ses avantages économiques par rapport aux méthodes HPHT traditionnelles.

Four de graphitisation de film à haute conductivité thermique

Four de graphitisation de film à haute conductivité thermique

Le four de graphitisation de film à haute conductivité thermique a une température uniforme, une faible consommation d'énergie et peut fonctionner en continu.

Four expérimental de graphitisation IGBT

Four expérimental de graphitisation IGBT

Four de graphitisation expérimental IGBT, une solution sur mesure pour les universités et les instituts de recherche, avec une efficacité de chauffage élevée, une convivialité et un contrôle précis de la température.

Four de graphitisation horizontal à haute température

Four de graphitisation horizontal à haute température

Four de graphitisation horizontal : Ce type de four est conçu avec les éléments chauffants placés horizontalement, permettant un chauffage uniforme de l'échantillon. Il est bien adapté à la graphitisation d’échantillons volumineux ou volumineux qui nécessitent un contrôle précis de la température et une uniformité.

Diamant CVD pour la gestion thermique

Diamant CVD pour la gestion thermique

Diamant CVD pour la gestion thermique : diamant de haute qualité avec une conductivité thermique jusqu'à 2 000 W/mK, idéal pour les dissipateurs de chaleur, les diodes laser et les applications GaN sur diamant (GOD).

Four de graphitisation à ultra haute température

Four de graphitisation à ultra haute température

Le four de graphitisation à ultra haute température utilise un chauffage par induction à moyenne fréquence dans un environnement sous vide ou sous gaz inerte. La bobine d'induction génère un champ magnétique alternatif, induisant des courants de Foucault dans le creuset en graphite, qui chauffe et rayonne de la chaleur vers la pièce, l'amenant à la température souhaitée. Ce four est principalement utilisé pour la graphitisation et le frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et d'autres matériaux composites.

Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment

Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment

Le moule d'étirage du revêtement composite nano-diamant utilise du carbure cémenté (WC-Co) comme substrat et utilise la méthode chimique en phase vapeur (méthode CVD en abrégé) pour revêtir le diamant conventionnel et le revêtement composite nano-diamant sur la surface de l'orifice intérieur du moule.

Four de graphitisation de matériaux négatifs

Four de graphitisation de matériaux négatifs

Le four de graphitisation pour la production de batteries a une température uniforme et une faible consommation d'énergie. Four de graphitisation pour matériaux d'électrodes négatives : une solution de graphitisation efficace pour la production de batteries et des fonctions avancées pour améliorer les performances des batteries.

Machine à diamant MPCVD 915MHz

Machine à diamant MPCVD 915MHz

La machine MPCVD 915 MHz pour diamants et sa croissance efficace multi-cristaux, la zone maximale peut atteindre 8 pouces, la zone maximale de croissance efficace du monocristal peut atteindre 5 pouces. Cet équipement est principalement utilisé pour la production de films de diamant polycristallin de grande taille, la croissance de longs diamants monocristallins, la croissance à basse température de graphène de haute qualité et d'autres matériaux dont la croissance nécessite de l'énergie fournie par un plasma à micro-ondes.

Ébauches de matrices de tréfilage diamant CVD

Ébauches de matrices de tréfilage diamant CVD

Ébauches de matrices de tréfilage diamantées CVD : dureté supérieure, résistance à l'abrasion et applicabilité dans le tréfilage de divers matériaux. Idéal pour les applications d'usinage à usure abrasive comme le traitement du graphite.

Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client

Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client

Obtenez votre four CVD exclusif avec le four polyvalent fabriqué par le client KT-CTF16. Fonctions de glissement, de rotation et d'inclinaison personnalisables pour des réactions précises. Commandez maintenant!

Bell-jar Resonator MPCVD Machine pour la croissance de laboratoire et de diamants

Bell-jar Resonator MPCVD Machine pour la croissance de laboratoire et de diamants

Obtenez des films diamantés de haute qualité avec notre machine Bell-jar Resonator MPCVD conçue pour la croissance de laboratoire et de diamants. Découvrez comment le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes fonctionne pour la croissance de diamants à l'aide de gaz carbonique et de plasma.

Four de frittage de porcelaine dentaire sous vide

Four de frittage de porcelaine dentaire sous vide

Obtenez des résultats précis et fiables avec le four à porcelaine sous vide de KinTek. Convient à toutes les poudres de porcelaine, il dispose d'une fonction de four céramique hyperbolique, d'une invite vocale et d'un étalonnage automatique de la température.

four à tube rotatif inclinable sous vide de laboratoire

four à tube rotatif inclinable sous vide de laboratoire

Découvrez la polyvalence du four rotatif de laboratoire : idéal pour la calcination, le séchage, le frittage et les réactions à haute température. Fonctions de rotation et d'inclinaison réglables pour un chauffage optimal. Convient aux environnements sous vide et à atmosphère contrôlée. En savoir plus maintenant !

Broyeur à billes vibrant hybride à haute énergie

Broyeur à billes vibrant hybride à haute énergie

Le KT-BM400 est utilisé pour le broyage ou le mélange rapide de petites quantités d'échantillons secs, humides ou congelés en laboratoire. Il peut être configuré avec deux bocaux de broyage à billes de 50 ml.

Broyeur à billes cryogénique à azote liquide

Broyeur à billes cryogénique à azote liquide

Le Kt-VBM100 est un broyeur à billes vibrant de laboratoire à haute performance et un instrument de tamisage à double usage, petit et léger. La plate-forme vibrante, avec une fréquence de vibration de 36 000 fois/min, fournit de l'énergie.

Tamis vibrant bidimensionnel

Tamis vibrant bidimensionnel

Le KT-VT150 est un instrument de bureau pour le traitement des échantillons, qui permet à la fois le tamisage et le broyage. Le broyage et le tamisage peuvent être utilisés aussi bien à sec qu'à l'état humide. L'amplitude de vibration est de 5 mm et la fréquence de vibration est de 3000-3600 fois/min.


Laissez votre message