Découvrez comment la croissance épitaxiale en phase vapeur (VPE) produit des semi-conducteurs de haute pureté. Explorez les caractéristiques, les méthodologies et les applications industrielles de la VPE.
Learn how plate spacing and chamber size impact PECVD deposition uniformity, substrate damage, and overall production efficiency in semiconductor manufacturing.
Découvrez les avantages du LPCVD pour une uniformité de film supérieure, une couverture de pas élevée et une contamination réduite dans les applications de semi-conducteurs et de graphène.
Découvrez comment l'APCVD offre une fabrication à haut débit et une production continue, tout en gérant l'accumulation de poussière et les exigences de débit d'air.
Découvrez comment les systèmes CVD à paroi froide offrent un refroidissement rapide, un contrôle thermique précis et une réduction de la surchauffe en chauffant uniquement le substrat.
Découvrez les caractéristiques des systèmes CVD à paroi chaude, notamment le chauffage par zone globale, l'uniformité thermique et la croissance de matériaux rentable.
Découvrez les différences entre les systèmes CVD à paroi chaude et à paroi froide, en mettant l'accent sur la gestion thermique, le contrôle de la contamination et le traitement par lots.